特許
J-GLOBAL ID：200903063539629244

フォトレジスト用樹脂溶液の製造方法、フォトレジスト組成物およびパターン形成方法

発明者：
江口 明良

江口 明良 について

, 
西村 政通

西村 政通 について


出願人/特許権者：
ダイセル化学工業株式会社

ダイセル化学工業株式会社 について


公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-202807
公開番号（公開出願番号）：特開2009-037108
出願日： 2007年08月03日
公開日（公表日）： 2009年02月19日
要約：
【課題】 本発明は、均一なパターン形成を可能とするろ過性の良好なフォトレジスト組成物を提供することを目的とし、長期的に安定なフォトレジスト用樹脂溶液、つまり長期間保管してもろ過性能が低下しないフォトレジスト用樹脂溶液を提供する事にある。【解決手段】 本発明は、酸によりアルカリ可溶となるフォトレジスト用樹脂を含む溶液を30〜90°Cにおいて、30分以上加熱熟成後、細孔径1μm以下のろ材によりろ過することを特徴とするフォトレジスト用樹脂溶液の製造方法を提供する。【選択図】なし
請求項（抜粋）：
酸によりアルカリ可溶となるフォトレジスト用樹脂を含む溶液を30〜90°Cにおいて、30分以上加熱熟成後、細孔径1μm以下のろ材によりろ過することを特徴とするフォトレジスト用樹脂溶液の製造方法。
IPC (4件)：
G03F 7/26 ,  G03F 7/039 ,  G03F 7/38 ,  H01L 21/027
FI (4件)：
G03F7/26 ,  G03F7/039 601 ,  G03F7/38 501 ,  H01L21/30 502R
Fターム (28件)：
2H025AA11 ,  2H025AB16 ,  2H025AC01 ,  2H025AC04 ,  2H025AC05 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BF02 ,  2H025BG00 ,  2H025BJ10 ,  2H025CC03 ,  2H025FA17 ,  2H096AA25 ,  2H096BA11 ,  2H096CA20 ,  2H096EA02 ,  2H096EA05 ,  2H096EA07 ,  2H096GA09 ,  4D006GA07 ,  4D006MA22 ,  4D006MC22 ,  4D006MC23 ,  4D006MC30 ,  4D006MC54 ,  4D006PB20 ,  4D006PC01
引用特許：
出願人引用 (2件) 審査官引用 (10件)
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