特許
J-GLOBAL ID：200903031818122185

化学増幅型レジスト組成物及びその製造方法

発明者：
樽谷 晋司

樽谷 晋司 について


出願人/特許権者：
富士フイルム株式会社

富士フイルム株式会社 について


代理人 (5件)： 小栗 昌平 ,  本多 弘徳 ,  市川 利光 ,  高松 猛 ,  矢澤 清純
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-219198
公開番号（公開出願番号）：特開2007-034049
出願日： 2005年07月28日
公開日（公表日）： 2007年02月08日
要約：
【課題】 経時での感度変動が小さく、現像液展開性に優れたポジ型レジスト組成物の製造方法を提供する。【解決手段】 単環又は多環の脂環式炭化水素構造を有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂を含有するポジ型レジスト組成物の製造方法に於いて、単環又は多環の脂環式炭化水素構造を有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂をイオン交換フィルターにより濾過する濾過工程を含み、好ましくは、更に、単環又は多環の脂環式炭化水素構造を有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂を不溶コロイド除去フィルターで濾過する濾過工程を含むポジ型レジスト組成物の製造方法。【選択図】 なし
請求項（抜粋）：
(A)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、 (B)酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が変化する樹脂、(C)塩基性化合物、(D)界面活性剤、(E)溶剤を含有する化学増幅型レジスト組成物の製造方法において、(A)成分の溶液を準備して混合する工程を含むことを特徴とする化学増幅型レジスト組成物の製造方法。
IPC (3件)：
G03F 7/26 ,  G03F 7/039 ,  H01L 21/027
FI (3件)：
G03F7/26 501 ,  G03F7/039 601 ,  H01L21/30 502R
Fターム (21件)：
2H025AA04 ,  2H025AA11 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025BJ10 ,  2H025CB41 ,  2H025CC03 ,  2H025CC04 ,  2H025CC20 ,  2H025EA01 ,  2H025FA17 ,  2H096AA25 ,  2H096BA11 ,  2H096CA00 ,  2H096CA20 ,  2H096GA08
引用特許：
出願人引用 (11件)
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審査官引用 (5件)
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