特許
J-GLOBAL ID：200903067971767629

投影光学系及びそれを用いた投影露光装置

発明者：
寺沢 千明

寺沢 千明 について

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加藤 隆志

加藤 隆志 について

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石井 弘之

石井 弘之 について


出願人/特許権者：
キヤノン株式会社

キヤノン株式会社 について


代理人 (1件)： 高梨 幸雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-167426
公開番号（公開出願番号）：特開2000-356742
出願日： 1999年06月14日
公開日（公表日）： 2000年12月26日
要約：
【要約】【課題】非球面を用いることによりNA0.65程度、露光領域φ27.3mm程度を達成した高NAで広い露光領域を有してレチクルパターンを半導体ウエハに投影露光することができる投影露光装置を得ること。【解決手段】物体の像を像面へ投影する投影光学系において、該投影光学系は物体側から順に正、負そして正のレンズ群の3つのレンズ群に構成され、該投影光学系の共役長をL、前記負の屈折力のレンズ群のパワーをψoとしたとき|L×ψo|>17であり、軸上マージナル光線の高さをh、最軸外主光線の高さをhb としたとき、物体側の面から順に|hb /h|>0.35を満足する面までに少なくとも2つの非球面を有し、該非球面の非球面量を△ASPHとしたとき、|△ASPH/L|>10-6を満足すること。
請求項（抜粋）：
物体の像を像面上へ投影する投影光学系において、前記投影光学系は物体側より順に正,負そして正の屈折力のレンズ群の3つのレンズ群にて構成され、前記投影光学系の共役長をL、前記負の屈折力のレンズ群のパワーをφoとしたとき |L×φo|>17(φo=Σφoi φoiは第i負レンズ群のパワー)であり、軸上マージナル光線の高さをh、最軸外主光線の高さをhb としたとき物体側の面から順に、|hb /h|>0.35を満足する面までに少なくとも2つの非球面を有し、該非球面の非球面量を△ASPHとしたとき|△ASPH/L|>1.0×10-6を満足することを特徴とする投影光学系。
IPC (4件)：
G02B 13/24 ,  G02B 13/18 ,  G03F 7/20 521 ,  H01L 21/027
FI (4件)：
G02B 13/24 ,  G02B 13/18 ,  G03F 7/20 521 ,  H01L 21/30 515 D
Fターム (36件)：
2H087KA21 ,  2H087LA01 ,  2H087NA02 ,  2H087NA04 ,  2H087PA13 ,  2H087PA15 ,  2H087PA17 ,  2H087PB13 ,  2H087PB14 ,  2H087PB15 ,  2H087PB17 ,  2H087QA01 ,  2H087QA02 ,  2H087QA03 ,  2H087QA05 ,  2H087QA06 ,  2H087QA14 ,  2H087QA17 ,  2H087QA18 ,  2H087QA21 ,  2H087QA25 ,  2H087QA32 ,  2H087QA34 ,  2H087QA38 ,  2H087QA42 ,  2H087QA45 ,  2H087RA05 ,  2H087RA12 ,  2H087RA13 ,  2H087UA03 ,  2H087UA04 ,  5F046BA04 ,  5F046CA04 ,  5F046CA08 ,  5F046CB12 ,  5F046CB25
引用特許：
審査官引用 (15件)
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