特許
J-GLOBAL ID:200903072167584116
半導体レーザ素子
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
長門 侃二
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-182167
公開番号(公開出願番号):特開2002-009401
出願日: 2000年06月16日
公開日(公表日): 2002年01月11日
要約:
【要約】【課題】 高光出力の半導体レーザ素子を提供する。【解決手段】 n型半導体基板1の上に、n型下部クラッド層2、下部光閉じ込め層3、量子井戸構造の活性層4、上部光閉じ込め層5、Znドープp型上部クラッド層6A,6B、およびキャップ層7がこの順序で形成されている半導体レーザ素子において、上部光閉じ込め層5と前記Znドープp型上部クラッド層6の間には、厚さが10〜100nmであるノンドープの半導体層8、とりわけノンドープInP層が介装されている半導体レーザ素子。
請求項(抜粋):
n型半導体基板の上に、n型下部クラッド層、下部光閉じ込め層、量子井戸構造の活性層、上部光閉じ込め層、Znドープp型上部クラッド層、およびキャップ層がこの順序で形成されている半導体レーザ素子において、前記上部光閉じ込め層と前記Znドープp型上部クラッド層の間には、ノンドープの半導体層が介装されていることを特徴とする半導体レーザ素子。
IPC (2件):
FI (2件):
Fターム (9件):
5F073AA22
, 5F073AA46
, 5F073AA51
, 5F073AA74
, 5F073CA12
, 5F073CB10
, 5F073DA05
, 5F073DA35
, 5F073EA24
引用特許:
審査官引用 (11件)
-
気相成長方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平3-168282
出願人:株式会社東芝
-
半導体レーザ
公報種別:公開公報
出願番号:特願平10-131800
出願人:アンリツ株式会社
-
半導体光素子
公報種別:公開公報
出願番号:特願平9-029290
出願人:日本電信電話株式会社
全件表示
前のページに戻る