特許
J-GLOBAL ID：200903085483957875

プラズマ処理装置およびプラズマ処理方法

発明者：
西川 和宏

西川 和宏 について


出願人/特許権者：
シャープ株式会社

シャープ株式会社 について


代理人 (6件)： 深見 久郎 ,  森田 俊雄 ,  仲村 義平 ,  堀井 豊 ,  野田 久登 ,  酒井 將行
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-193607
公開番号（公開出願番号）：特開2006-019067
出願日： 2004年06月30日
公開日（公表日）： 2006年01月19日
要約：
【課題】 プラズマ処理装置において、きわめて短時間にガスの置換を行なうことが可能な装置を提供する。【解決手段】 プラズマ処理装置は、大気圧近傍の圧力下であるプラズマ発生空間16に対して所望のガスを供給するためのガス供給手段と、プラズマ発生空間16内にプラズマ8を発生させるための3以上の電極5a,5b,5cと、プラズマ発生空間16内にプラズマ8を発生させるために上記3以上の電極の中から選択された1以上の電極である電圧印加対象電極に電圧を印加するための電源6と、プラズマ発生空間16内におけるプラズマ8の発生する領域が互いに異なる第1の発生領域と第2の発生領域との間で切り替わるように、上記電圧印加対象電極の選択を切り替えるための電圧印加状態切替手段としてのスイッチング回路7とを備える。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
大気圧近傍の圧力下であるプラズマ発生空間に対して所望のガスを供給するためのガス供給手段と、 前記プラズマ発生空間内にプラズマを発生させるための3以上の電極と、 前記プラズマ発生空間内にプラズマを発生させるために前記3以上の電極の中から選択された1以上の電極である電圧印加対象電極に電圧を印加するための電源と、 前記プラズマ発生空間内における前記プラズマの発生する領域が互いに異なる第1の発生領域と第2の発生領域との間で切り替わるように、前記電圧印加対象電極の選択を切り替えるための電圧印加状態切替手段とを備える、プラズマ処理装置。
IPC (4件)：
H05H 1/24 ,  C23C 16/509 ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/306
FI (4件)：
H05H1/24 ,  C23C16/509 ,  H01L21/205 ,  H01L21/302 101H
Fターム (19件)：
4K030JA03 ,  4K030JA09 ,  4K030KA14 ,  4K030KA15 ,  4K030KA17 ,  4K030KA30 ,  5F004AA15 ,  5F004BA05 ,  5F004BA06 ,  5F004BA20 ,  5F004BB24 ,  5F004BB28 ,  5F004CA08 ,  5F045AA08 ,  5F045AE29 ,  5F045DP27 ,  5F045EB06 ,  5F045EF01 ,  5F045EH05
引用特許：
出願人引用 (1件) 審査官引用 (10件)
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