特許
J-GLOBAL ID：200903089508406165

レジスト除去装置

発明者：
三木 正博

三木 正博 について

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新田 雄久

新田 雄久 について

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斉藤 輝夫

斉藤 輝夫 について

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佐々木 光彦

佐々木 光彦 について

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前田 慶之

前田 慶之 について

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牛丸 正志

牛丸 正志 について

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大見 忠弘

大見 忠弘 について


出願人/特許権者：
横河電機株式会社

横河電機株式会社 について

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ユーシーティー株式会社

ユーシーティー株式会社 について

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ラムリサーチ株式会社

ラムリサーチ株式会社 について


公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-066554
公開番号（公開出願番号）：特開2001-257189
出願日： 2000年03月10日
公開日（公表日）： 2001年09月21日
要約：
【要約】【課題】 時間・エネルギーの消費を軽減でき、表面汚染を生じないレジスト除去装置を実現する。【解決手段】 所定量の純水を供給する純水定量供給手段と、この純水定量供給手段から供給される純水を加熱する加熱手段と、加熱された純水の通路の内径を部分的に異ならせて内部圧力を制御する内圧制御手段とを含み、これら各手段が化学的耐蝕性部材で構成された水蒸気供給系統と、この水蒸気供給系統から水蒸気が導入され、除去すべきレジストが付着した基板が配置されるチャンバーとを備え、水蒸気と基板とを相対的に移動させることを特徴とするもの。
請求項（抜粋）：
所定量の純水を供給する純水定量供給手段と、この純水定量供給手段から供給される純水を加熱する加熱手段と、加熱された純水の通路の内径を部分的に異ならせて内部圧力を制御する内圧制御手段とを含み、これら各手段が化学的耐蝕性部材で構成された水蒸気供給系統と、この水蒸気供給系統から水蒸気が導入され、除去すべきレジストが付着した基板が配置されるチャンバーとを備え、水蒸気と基板とを相対的に移動させることを特徴とするレジスト除去装置。
IPC (9件)：
H01L 21/304 648 ,  H01L 21/304 643 ,  H01L 21/304 645 ,  H01L 21/304 ,  G03F 7/42 ,  H01L 21/027 ,  H01L 21/306 ,  H01L 21/308 ,  B01J 19/08
FI (9件)：
H01L 21/304 648 H ,  H01L 21/304 643 D ,  H01L 21/304 645 B ,  H01L 21/304 645 D ,  G03F 7/42 ,  H01L 21/308 E ,  B01J 19/08 F ,  H01L 21/30 572 B ,  H01L 21/306 D
Fターム (31件)：
2H096AA25 ,  2H096AA26 ,  2H096LA02 ,  2H096LA03 ,  4G075AA24 ,  4G075BA05 ,  4G075BB05 ,  4G075BC10 ,  4G075BD14 ,  4G075BD16 ,  4G075CA02 ,  4G075CA03 ,  4G075CA23 ,  4G075CA33 ,  4G075DA02 ,  4G075EA02 ,  4G075EA06 ,  4G075EB31 ,  4G075EC01 ,  4G075FB12 ,  5F043CC16 ,  5F043DD07 ,  5F043DD08 ,  5F043DD10 ,  5F043EE05 ,  5F043EE27 ,  5F043EE35 ,  5F043EE36 ,  5F046MA02 ,  5F046MA04 ,  5F046MA07
引用特許：
審査官引用 (12件)
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