特許
J-GLOBAL ID:200903090627852457

液体処理方法および液体処理装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 井上 学
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2005-354294
公開番号(公開出願番号):特開2007-152304
出願日: 2005年12月08日
公開日(公表日): 2007年06月21日
要約:
【課題】複数の波長の紫外線と微細気泡を併用して、消毒・不活化性能が高くかつ経済的な液体処理方法及び液体処理装置を提供する。【解決手段】反応槽1内に少なくとも2つの波長ピークの紫外線を照射する照射手段2を設置し、気泡生成手段4は処理水6の一部に気体8を注入して気体8の微細気泡を含有する二相流10を生成し、生成された二相流10を気泡注入手段11から反応槽1に注入し、反応槽1の上部の注入口12から流入した被処理水5は微細気泡9が滞留する中、照射手段2の放射する少なくとも2つの波長ピークの紫外線を受け、反応槽1の下部の排出口13から処理水6として排出される。【選択図】図1
請求項(抜粋):
被処理水の注入口と処理水の排出口を具備した反応槽と、該反応槽内に設置され紫外線を放射する照射手段と、該照射手段に電力を供給する電源装置と、前記反応槽内に注入するための微細気泡を含む二相流を生成する微細気泡生成手段を備えた液体処理装置。
IPC (5件):
C02F 1/32 ,  C02F 1/78 ,  B01F 1/00 ,  C02F 1/50 ,  B01F 3/04
FI (14件):
C02F1/32 ,  C02F1/78 ,  B01F1/00 A ,  C02F1/50 510A ,  C02F1/50 510B ,  C02F1/50 520C ,  C02F1/50 520Q ,  C02F1/50 531B ,  C02F1/50 531R ,  C02F1/50 540B ,  C02F1/50 550B ,  C02F1/50 550D ,  C02F1/50 560C ,  B01F3/04 A
Fターム (15件):
4D037AA11 ,  4D037BA18 ,  4D037CA12 ,  4D050AA03 ,  4D050AA15 ,  4D050AB06 ,  4D050BB01 ,  4D050BB02 ,  4D050BC09 ,  4D050BD02 ,  4D050BD03 ,  4D050BD04 ,  4D050BD06 ,  4G035AA01 ,  4G035AB07
引用特許:
出願人引用 (17件)
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審査官引用 (14件)
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