TiSiN薄膜およびその成膜方法、半導体装置およびその製造方法、ならびにTiSiN薄膜の成膜装置

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：高山宏志
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-326611
公開番号（公開出願番号）：特開2001-144032
出願日： 1999年11月17日
公開日（公表日）： 2001年05月25日
要約：

【要約】 (修正有)【課題】高ステップカバレージで成膜することが可能なTiSiN薄膜およびその製造方法を提供すること。【解決手段】 Ti含有ガス、Si含有ガス、およびN含有ガスを含む成膜ガスを用いて熱CVDによりTiSiN薄膜を成膜し、前記Ti含有ガスとして、TiCl4、テトラキシジメチルアミノチタニウム、テトラキシジエチルアミノチタニウムの少なくとも1種を、前記Si含有ガスとして、SiH2Cl2、SiHCl3、SiCl4、Si2H4、Si2H6の少なくとも1種を、前記N含有ガスとして、NH3およびモノメチルヒドラジンの少なくとも1種を用いる。

請求項（抜粋）：

熱CVDにより形成されたことを特徴とするTiSiN薄膜。

IPC (9件)：

H01L 21/285 , H01L 21/285 301 , C23C 16/34 , H01L 21/768 , H01L 27/04 , H01L 21/822 , H01L 27/108 , H01L 21/8242 , H01L 29/78

FI (9件)：

H01L 21/285 C , H01L 21/285 301 T , C23C 16/34 , H01L 21/90 C , H01L 27/04 C , H01L 27/10 621 Z , H01L 27/10 621 C , H01L 27/10 651 , H01L 29/78 301 G

Fターム (89件)：

4K030AA02 , 4K030AA06 , 4K030AA11 , 4K030AA13 , 4K030BA01 , 4K030BA18 , 4K030BA20 , 4K030BA22 , 4K030BA29 , 4K030BA38 , 4K030BA42 , 4K030BB12 , 4K030FA10 , 4K030LA02 , 4K030LA12 , 4M104AA01 , 4M104BB01 , 4M104BB04 , 4M104BB25 , 4M104BB30 , 4M104CC05 , 4M104DD44 , 4M104DD45 , 4M104EE03 , 4M104FF13 , 4M104FF18 , 4M104GG09 , 4M104GG16 , 4M104GG19 , 4M104HH05 , 4M104HH13 , 4M104HH16 , 5F033HH08 , 5F033HH11 , 5F033HH27 , 5F033HH33 , 5F033JJ08 , 5F033JJ11 , 5F033JJ19 , 5F033JJ27 , 5F033JJ33 , 5F033KK01 , 5F033MM05 , 5F033MM12 , 5F033MM13 , 5F033QQ09 , 5F033QQ37 , 5F033XX02 , 5F033XX03 , 5F033XX10 , 5F033XX20 , 5F033XX28 , 5F038AC05 , 5F038AC09 , 5F038AC15 , 5F038DF05 , 5F038EZ20 , 5F040DA01 , 5F040DB09 , 5F040DC01 , 5F040EA08 , 5F040EC01 , 5F040EC04 , 5F040EC09 , 5F040EC12 , 5F040EC19 , 5F040ED03 , 5F040ED04 , 5F083AD21 , 5F083GA09 , 5F083GA27 , 5F083GA30 , 5F083JA02 , 5F083JA06 , 5F083JA14 , 5F083JA15 , 5F083JA19 , 5F083JA32 , 5F083JA33 , 5F083JA35 , 5F083JA36 , 5F083JA37 , 5F083JA38 , 5F083JA39 , 5F083JA40 , 5F083MA06 , 5F083MA17 , 5F083PR16 , 5F083PR21

引用特許：

審査官引用 (15件)

半導体装置および基板上への非晶質窒化硅素チタンの形成方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-295691 出願人：キヤノン株式会社
集積回路構造のバイア又は接点開口用の改善された障壁層及びその製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-334230 出願人：エルエスアイロジックコーポレーション
特開平2-039527

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