化学機械研磨パッド用組成物、化学機械研磨パッド及び化学機械研磨方法

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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：大島正孝
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-049558
公開番号（公開出願番号）：特開2006-055983
出願日： 2005年02月24日
公開日（公表日）： 2006年03月02日
要約：

【課題】平坦な被研磨面が得られるとともに、高い研磨速度を与えることができ、かつ十分な寿命を有する化学機械研磨用パッドを製造するための化学機械研磨パッド用組成物、その組成物から形成された化学機械研磨パッド、及びその化学機械研磨パッドを用いる化学機械研磨方法を提供すること【解決手段】組成物は(A)ポリスチレン又はスチレン共重合体、(B)ジエン系(共)重合体(ただし、(A)成分に該当するものを除く。)及び(C)架橋剤を含有する化学機械研磨パッド用組成物であって、JIS K6300-2に準じて振動式加硫試験機により18分間歪みを加えた後のトルクが0.05〜0.50N・mであることを特徴とする。化学機械研磨パッドは、上記組成物から形成される。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

(A)ポリスチレン又はスチレン共重合体、(B)ジエン系(共)重合体(ただし、(A)成分に該当するものを除く。)及び(C)架橋剤を含有する化学機械研磨パッド用組成物であって、JIS K6300-2に準じて振動式加硫試験機により下記の条件で18分間歪みを加えた後のトルクが0.05〜0.50N・mであることを特徴とする、化学機械研磨パッド用組成物。測定温度:170°C 圧力:490kPa 振幅角:±1° ねじり振動数:100cpm

IPC (2件)：

B24B 37/00 , H01L 21/304

FI (2件)：

B24B37/00 C , H01L21/304 622F

Fターム (6件)：

3C058AA07 , 3C058AA09 , 3C058CA01 , 3C058CB01 , 3C058CB03 , 3C058DA12

引用特許：

出願人引用 (16件)

化学的機械研磨装置で使用するためのみぞ付パターンを有する研磨パッド
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-171993 出願人：アプライドマテリアルズインコーポレイテッド
精密研磨シート
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-042483 出願人：株式会社大輝
改善されたスラリー分配を備えた化学機械研磨装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-043233 出願人：アプライドマテリアルズインコーポレイテッド

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