特許
J-GLOBAL ID:201103055498838335
研磨布
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
西澤 利夫
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2010-276660
公開番号(公開出願番号):特開2011-148082
出願日: 2010年12月13日
公開日(公表日): 2011年08月04日
要約:
【課題】被研磨物のスクラッチの発生を大幅に抑制できる研磨布を提供する。【解決手段】発泡層を有するシート状の精密研磨用の研磨布であって、バフィング加工がされておらず、発泡層における顔料の含有量が10質量%以下であることを特徴とする。【選択図】なし
請求項(抜粋):
発泡層を有するシート状の精密研磨用の研磨布であって、バフィング加工がされておらず、発泡層における顔料の含有量が10質量%以下であることを特徴とする研磨布。
IPC (1件):
FI (1件):
Fターム (7件):
3C058AA07
, 3C058AA09
, 3C058CA05
, 3C058CA06
, 3C058CB02
, 3C058CB10
, 3C058DA17
引用特許:
審査官引用 (15件)
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精密研磨用の研磨布及びその製造方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願2004-159976
出願人:株式会社FILWEL
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研磨布及び研磨布の製造方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願2003-393700
出願人:富士紡績株式会社
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特開平2-220838
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研磨パッド
公報種別:公開公報
出願番号:特願2008-063547
出願人:東洋ゴム工業株式会社
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不織布研磨シート
公報種別:公開公報
出願番号:特願2006-019351
出願人:東洋紡績株式会社
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研磨布
公報種別:公開公報
出願番号:特願2004-259531
出願人:ニッタ・ハース株式会社
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特公平5-047667
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特開平2-088229
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研磨パッド
公報種別:公開公報
出願番号:特願2009-174632
出願人:富士紡ホールディングス株式会社
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研磨パッド
公報種別:公開公報
出願番号:特願2009-223047
出願人:富士紡ホールディングス株式会社
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仕上げ研磨用研磨布
公報種別:公開公報
出願番号:特願2003-129136
出願人:ロデール・ニッタ株式会社
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仕上げ研磨用研磨布及び研磨布の製造方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願2004-250471
出願人:富士紡ホールディングス株式会社
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半導体製造装置および半導体装置の製造方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平10-007883
出願人:ソニー株式会社
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情報記録媒体用ガラス基板及びその製造方法並びにそれに使用する研磨パッド
公報種別:公開公報
出願番号:特願2003-034094
出願人:日本板硝子株式会社
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研磨パッド用ドレッサ
公報種別:公開公報
出願番号:特願2001-311296
出願人:鋼鈑工業株式会社, 株式会社アライドマテリアル
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