特許
J-GLOBAL ID：201203069062753162

合成石英ガラス基板及びその製造方法

発明者：
松井 晴信

松井 晴信 について

, 
原田 大実

原田 大実 について

, 
竹内 正樹

竹内 正樹 について


出願人/特許権者：
信越化学工業株式会社

信越化学工業株式会社 について


代理人 (4件)： 小島 隆司 ,  重松 沙織 ,  小林 克成 ,  石川 武史
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2011-105939
公開番号（公開出願番号）：特開2012-009833
出願日： 2011年05月11日
公開日（公表日）： 2012年01月12日
要約：
【課題】光リソグラフィー法等で使われるフォトマスク用合成石英ガラス基板として、平坦度が良く微細な描画を行うことができ、かつ基板表面が低欠陥で面粗さの小さい合成石英ガラス基板を提供する。【解決手段】表面中央132mm×132mm角の外周から表面外周縁へ向かって傾斜している6インチ角の合成ガラス基板であって、表面中央132mm×132mm角の平坦度が50nm以下、表面中央148mm×148mm角内であって表面中央132mm×132mm角部分を除いた額縁部分の平坦度が150nm以下である。【選択図】図2
請求項（抜粋）：
表面中央132mm×132mm角の外周から表面外周縁へ向かって傾斜している6インチ角の合成ガラス基板であって、 表面中央132mm×132mm角の平坦度が50nm以下、 表面中央148mm×148mm角内であって表面中央132mm×132mm角部分を除いた額縁部分の平坦度が150nm以下 であることを特徴とする合成石英ガラス基板。
IPC (3件)：
H01L 21/027 ,  C03C 3/06 ,  G03F 1/22
FI (4件)：
H01L21/30 531M ,  C03C3/06 ,  H01L21/30 502D ,  G03F1/16 A
Fターム (64件)：
2H095BA10 ,  2H095BC28 ,  4G062AA01 ,  4G062BB02 ,  4G062DA08 ,  4G062DB01 ,  4G062DC01 ,  4G062DD01 ,  4G062DE01 ,  4G062DF01 ,  4G062EA01 ,  4G062EA10 ,  4G062EB01 ,  4G062EC01 ,  4G062ED01 ,  4G062EE01 ,  4G062EF01 ,  4G062EG01 ,  4G062FA01 ,  4G062FA10 ,  4G062FB01 ,  4G062FB02 ,  4G062FB03 ,  4G062FC01 ,  4G062FD01 ,  4G062FE01 ,  4G062FF01 ,  4G062FG01 ,  4G062FH01 ,  4G062FJ01 ,  4G062FK01 ,  4G062FL01 ,  4G062GA01 ,  4G062GA10 ,  4G062GB01 ,  4G062GC01 ,  4G062GD01 ,  4G062GE01 ,  4G062HH01 ,  4G062HH03 ,  4G062HH05 ,  4G062HH07 ,  4G062HH09 ,  4G062HH11 ,  4G062HH13 ,  4G062HH15 ,  4G062HH17 ,  4G062HH20 ,  4G062JJ01 ,  4G062JJ03 ,  4G062JJ05 ,  4G062JJ07 ,  4G062JJ10 ,  4G062KK01 ,  4G062KK03 ,  4G062KK05 ,  4G062KK07 ,  4G062KK10 ,  4G062MM40 ,  4G062NN16 ,  5F146AA31 ,  5F146GA03 ,  5F146GA21 ,  5F146GD23
引用特許：
出願人引用 (13件)
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審査官引用 (13件)
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