特許
J-GLOBAL ID：201403000786817027

メッキ造形物の形成方法

発明者：
片山 翔太

片山 翔太 について


出願人/特許権者：
東京応化工業株式会社

東京応化工業株式会社 について


代理人 (1件)： 正林 真之
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-258045
公開番号（公開出願番号）：特開2014-106306
出願日： 2012年11月26日
公開日（公表日）： 2014年06月09日
要約：
【課題】ボトム(基板表面と接触している側)の幅が、ボトムと対向するトップの幅よりも大きい、基板と安定して密着可能なメッキ造形物の形成方法を提供すること。【解決手段】基板上に下層膜と、ポジ型ホトレジスト組成物からなる上層膜とからなる複合膜を形成し、露光後の下層膜のアルカリ現像液に対する溶解速度RLを、露光後の上層膜のアルカリ現像液に対する溶解速度RUより大とする。溶解速度RLの溶解速度RUに対する比RL/RUは1より大きく100以下であるのが好ましい。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
基板上に下層膜を形成する下層膜形成工程と、 前記下層膜上にポジ型ホトレジスト組成物を塗布して上層膜を形成する上層膜形成工程と、 前記下層膜と前記上層膜とからなる複合膜を選択的に露光する露光工程と、 露光後の前記複合膜をアルカリ現像液により現像して複合膜のパターンを得る現像工程と、 前記複合膜のパターン中の前記複合膜が除去された箇所にメッキを施すメッキ工程と、を含み、 前記露光後の下層膜の前記アルカリ現像液に対する溶解速度RLが、前記露光後の上層膜の前記アルカリ現像液に対する溶解速度RUより大である、メッキ造形物の形成方法。
IPC (4件)：
G03F 7/26 ,  G03F 7/40 ,  G03F 7/095 ,  H01L 21/027
FI (6件)：
G03F7/26 511 ,  G03F7/40 521 ,  G03F7/095 ,  G03F7/26 513 ,  H01L21/30 573 ,  H01L21/30 576
Fターム (45件)：
2H096AA27 ,  2H096BA11 ,  2H096HA28 ,  2H096JA04 ,  2H096KA03 ,  2H096KA06 ,  2H096KA14 ,  2H096LA02 ,  2H125AF18P ,  2H125AF46P ,  2H125AH12 ,  2H125AH19 ,  2H125AH29 ,  2H125AJ14X ,  2H125AJ14Y ,  2H125AJ44Y ,  2H125AJ48Y ,  2H125AJ63X ,  2H125AJ64X ,  2H125AJ66X ,  2H125AM10N ,  2H125AM13N ,  2H125AM15N ,  2H125AM22N ,  2H125AM23N ,  2H125AM32N ,  2H125AM80N ,  2H125AN02P ,  2H125AN11P ,  2H125AN21P ,  2H125AN39N ,  2H125AN39P ,  2H125AN63P ,  2H125AN72P ,  2H125AN82P ,  2H125BA26P ,  2H125CA11 ,  2H125CB02 ,  2H125CC03 ,  2H125CC15 ,  2H125DA11 ,  2H125DA12 ,  5F146NA05 ,  5F146NA12 ,  5F146NA13
引用特許：
審査官引用 (12件)
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