フォーカス位置調整装置、レチクル、フォーカス位置調整プログラムおよび半導体装置の製造方法

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：酒井宏明
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2013-036348
公開番号（公開出願番号）：特開2014-165398
特許番号：特許第5784657号
出願日： 2013年02月26日
公開日（公表日）： 2014年09月08日
請求項（抜粋）：

【請求項1】被加工層の段差を見積る段差見積部と、前記被加工層の段差に基づいて、露光時の球面収差に対する感度が異なるアシストパターンをマスクパターンに付加するアシストパターン発生部と、前記被加工層の段差を前記球面収差に換算する球面収差換算部とを備えることを特徴とするフォーカス位置調整装置。

IPC (3件)：