特許
J-GLOBAL ID：201503003799079358

膜検査方法、インプリント方法、パターン構造体の製造方法、インプリント用のモールド、インプリント用の転写基板、および、インプリント装置

発明者：
大川 泰央

大川 泰央 について

, 
吉田 幸司

吉田 幸司 について


出願人/特許権者：
大日本印刷株式会社

大日本印刷株式会社 について


代理人 (2件)： 米田 潤三 ,  太田 昌孝
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2013-174513
公開番号（公開出願番号）：特開2015-043369
出願日： 2013年08月26日
公開日（公表日）： 2015年03月05日
要約：
【課題】膜形成時の膜の状態、形成後の膜の状態、膜除去時の膜残量等を容易に精度よく検査するための膜検査方法、この膜検査方法を利用したインプリント方法、パターン構造体の製造方法、インプリント装置、および、インプリント用のモールド、インプリント用の転写基板を提供する。【解決手段】対向する電極間に位置する物質の状態の変化によって電極間の誘電率が変化することを利用し、基板上の所定部位に位置して膜が存在する導電部と対向するように検知電極を配し、導電部と検知電極との電位差から、基板上の膜の状態を検出する。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
基板上の膜の状態を検査する膜検査方法において、 対向する電極間に位置する物質の状態変化によって電極間の誘電率が変化することを利用し、基板上の所定部位に位置して膜が存在する導電部と対向するように検知電極を配し、導電部と検知電極との電位差から膜の状態を検出することを特徴とする膜検査方法。
IPC (2件)：
H01L 21/027 ,  B29C 59/02
FI (2件)：
H01L21/30 502D ,  B29C59/02 Z
Fターム (15件)：
4F209AA36 ,  4F209AF01 ,  4F209AG05 ,  4F209AJ09 ,  4F209AJ11 ,  4F209AM14 ,  4F209AP11 ,  4F209AP12 ,  4F209AQ03 ,  4F209PA02 ,  4F209PB01 ,  4F209PN09 ,  4F209PN20 ,  4F209PQ11 ,  5F146AA31
引用特許：
出願人引用 (14件)
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審査官引用 (14件)
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