特許
J-GLOBAL ID：201603003062214155

プラズマ処理装置用の部品、プラズマ処理装置、及びプラズマ処理装置用の部品の製造方法

発明者：
三橋 康至

三橋 康至 について

, 
西村 敏

西村 敏 について


出願人/特許権者：
東京エレクトロン株式会社

東京エレクトロン株式会社 について


代理人 (3件)： 長谷川 芳樹 ,  黒木 義樹 ,  柏岡 潤二
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2015-124725
公開番号（公開出願番号）：特開2016-028379
出願日： 2015年06月22日
公開日（公表日）： 2016年02月25日
要約：
【課題】貫通孔を有しプラズマに晒される部品の耐電圧を改善するプラズマ処理装置用の部品、プラズマ処理装置、及びプラズマ処理装置用の部品の製造方法を提供する。【解決手段】部品は、母材70b、アルマイト層70a、及び溶射膜70sを備えている。母材70bには、複数の貫通孔70tが形成されている。母材は70b、複数の貫通孔70tの開口端が位置し、且つ粗面化処理により形成された粗面70rを有する。アルマイト層70aは、陽極酸化処理により粗面70rを含む母材の表面に形成されて、シャワープレート70の貫通孔70h、即ち、ガス吐出口が画成される。溶射膜70sは、粗面70r上にアルマイト層70aを介して設けられている。【選択図】図2
請求項（抜粋）：
プラズマに晒されるプラズマ処理装置用の部品であって、 複数の貫通孔が形成された母材であり、該複数の貫通孔の開口端が位置し、且つ粗面化処理により形成された粗面を有する、該母材と、 陽極酸化処理により、前記粗面を含む前記母材の表面に形成されたアルマイト層と、 前記粗面上に前記アルマイト層を介して設けられた溶射膜と、 を備える部品。
IPC (4件)：
H05H 1/46 ,  H01L 21/306 ,  H01L 21/205 ,  C23C 16/509
FI (5件)：
H05H1/46 M ,  H01L21/302 101G ,  H01L21/205 ,  H01L21/302 101L ,  C23C16/509
Fターム (37件)：
2G084BB02 ,  2G084BB05 ,  2G084BB07 ,  2G084BB33 ,  2G084CC05 ,  2G084CC12 ,  2G084CC33 ,  2G084DD02 ,  2G084DD15 ,  2G084DD22 ,  2G084DD23 ,  2G084DD24 ,  2G084DD37 ,  2G084DD38 ,  2G084DD63 ,  2G084DD64 ,  2G084DD68 ,  2G084FF15 ,  2G084FF29 ,  2G084FF38 ,  2G084FF39 ,  4K030EA04 ,  4K030FA03 ,  4K030KA12 ,  4K030KA46 ,  4K030KA47 ,  4K030LA15 ,  5F004AA16 ,  5F004BA04 ,  5F004BB13 ,  5F004BB21 ,  5F004BC08 ,  5F004BD04 ,  5F045DP03 ,  5F045EF05 ,  5F045EG01 ,  5F045EM05
引用特許：
出願人引用 (12件)
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審査官引用 (12件)
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