特許
J-GLOBAL ID：201603017927940290
高分子化合物の製造方法、高分子化合物、及びフォトレジスト用樹脂組成物
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
後藤 幸久
, 羽明 由木
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-175428
公開番号（公開出願番号）：特開2014-034601
特許番号：特許第5914241号
出願日： 2012年08月07日
公開日（公表日）： 2014年02月24日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 下記式(a1)〜(a3)
(式中、Rは水素原子、ハロゲン原子、又はハロゲン原子を有していてもよい炭素数1〜6のアルキル基を示し、Aは単結合又は連結基を示す。Xは非結合、メチレン基、エチレン基、酸素原子、又は硫黄原子を示す。Yはカルボニル基を示す。R1は、フッ素原子を有するアルキル基又はシアノ基を示す。R2、R3は、同一又は異なって、水素原子、フッ素原子、フッ素原子を有していてもよいアルキル基、保護基で保護されていてもよいヒドロキシル基、保護基で保護されていてもよいヒドロキシアルキル基、保護基で保護されていてもよいカルボキシル基、又はシアノ基を示す)
で表されるモノマー単位から選択される少なくとも1種のモノマー単位a、及び酸によりその一部が脱離してアルカリ可溶性となる基を含むモノマー単位bを有する高分子化合物を含有する樹脂溶液を、下記フィルターを使用して、濾過温度0〜80°C、濾過流量0.01〜100kg/min/m2で濾過する工程を有する高分子化合物の製造方法。
フィルター:強酸性陽イオン交換基を含まず、正のゼータ電位を示すフィルター
IPC (2件)：
C08F 220/36 ( 200 6.01)
, G03F 7/039 ( 200 6.01)
C08F 220/36
, G03F 7/039 601
出願人引用 (12件)
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審査官引用 (12件)
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