特許
J-GLOBAL ID：201803017743007455
フォトマスク基板、フォトマスクブランク、フォトマスク、フォトマスク基板の製造方法、表示装置の製造方法、フォトマスクのハンドリング方法、及びフォトマスク基板のハンドリング方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
大塚 武史
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2018-169719
公開番号（公開出願番号）：特開2018-189997
出願日： 2018年09月11日
公開日（公表日）： 2018年11月29日
要約：
【課題】端面の表面粗さにより発生する異物を極力低減し、基板の損傷を防止するとともに、基板の自動ハンドリングの信頼性を確実にすることができるフォトマスク基板を提供する。【解決手段】透明材料からなり、主表面に転写用パターンを形成するためのフォトマスク基板であって、表裏2つの四角形の主表面及び4つの端面を備える。4つの端面のそれぞれについて、透明材料内部の上記端面から所定深さの位置に、光学的に検出可能な透明材料の改質部が形成され、かつ、上記端面の算術平均表面粗さ(Ra)は、0.005μm以上0.02μm以下である。【選択図】図3
請求項（抜粋）：
透明材料からなり、主表面に転写用パターンを形成するための、表示装置用のフォトマスク基板であって、
表裏2つの四角形の主表面、及び4つの端面を備えるフォトマスク基板において、
前記4つの端面のそれぞれについて、前記透明材料内部の、前記端面から所定深さの位置に、前記透明材料の改質部が形成され、
前記改質部は、光学的に検出可能であり、かつ、
前記端面の算術平均表面粗さ(Ra)は、0.005μm以上0.02μm以下であることを特徴とする、フォトマスク基板。
IPC (3件)：
G03F 1/60
, G03F 1/38
, G03F 7/20
G03F1/60
, G03F1/38
, G03F7/20 501
2H195BA12
, 2H195BC26
, 2H195BE04
, 2H195BE10
, 2H195BE11
, 2H197BA11
, 2H197CD27
, 2H197DB33
, 2H197DC06
, 2H197HA04
, 2H197HA05
