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J-GLOBAL ID:200903001622155682

偏光分離素子及びその製造方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (2): 角田 芳末 ,  磯山 弘信
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2004177323
Publication number (International publication number):2006003447
Application date: Jun. 15, 2004
Publication date: Jan. 05, 2006
Summary:
【課題】簡単な工程で大面積にわたる回折格子の形成をマスク合わせ精度などの高度な技術を要することなく比較的容易に行うことが可能な偏光分離変換素子及びその製造方法を提供する。【解決手段】使用波長範囲において光透過性を有する材料より成る基材1の表面に、回折格子を構成する凹凸パターン2が設けられ、この凹凸パターン2の凸部3の少なくとも2つ以上の面が、金属或いは金属化合物より成る材料膜4で被覆されて成る構成とする。 2回の斜め蒸着により簡単に且つ精度良く回折格子を大面積に形成することが可能となる。【選択図】図1
Claim (excerpt):
使用波長範囲において光透過性を有する材料より成る基材の表面に、回折格子を構成する凹凸パターンが設けられ、 上記凹凸パターンの凸部の少なくとも2つ以上の面が、金属或いは金属化合物より成る材料膜で被覆されて成る ことを特徴とする偏光分離素子。
IPC (3):
G02B 5/30 ,  G02B 5/18 ,  G02B 27/28
FI (3):
G02B5/30 ,  G02B5/18 ,  G02B27/28 Z
F-Term (14):
2H049AA03 ,  2H049AA13 ,  2H049AA37 ,  2H049AA55 ,  2H049AA61 ,  2H049BA05 ,  2H049BA45 ,  2H049BC01 ,  2H049BC08 ,  2H099AA05 ,  2H099AA11 ,  2H099BA17 ,  2H099CA17 ,  2H099DA05
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (3) Cited by examiner (20)
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