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J-GLOBAL ID：200903008938937407

大気圧大面積プラズマ発生装置

Inventor：
田辺 英二

About 田辺 英二


Applicant, Patent owner：
株式会社エーイーティー

About 株式会社エーイーティー


Agent (1)： 井ノ口 壽
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2004344205
Publication number (International publication number)：2006156100
Application date： Nov. 29, 2004
Publication date： Jun. 15, 2006
Summary：
【課題】大気圧大面積プラズマ発生装置を提供する。【解決手段】本発明による大気圧大面積プラズマ発生装置は、発振周波数が可変なVCO回路,マイクロ波の発振時間と発振の繰り返し時間可変のパルス回路を含むマイクロ波発振器1と、アイソレータと増幅器を含むマイクロ波変調器2と、前記マイクロ波変調器2の出力に接続されているユニット化した複数のマイクロ波電力増幅器と、前記各マイクロ波電力増幅器にそれぞれ接続され、それぞれにプラズマ発生用ガスが導入されている同軸共振ヘッドよりなるプラズマガスを発生する複数のマイクロ波プラズマ発生源4と、前記複数のマイクロ波プラズマ発生源4を特定の空間に向けて配列する支持構造と、前記プラズマ発生源4に関連して配置されているプラズマセンサと、制御装置5から構成されている。【選択図】図1A
Claim (excerpt)：
大気圧下でプラズマ生成用ガスを励起するマイクロ波励起プラズマガス発生装置であって、 発振周波数が可変なVCO回路,マイクロ波の発振時間と発振の繰り返し時間可変のパルス回路を含むマイクロ波発振器と、 前記マイクロ波発振器に接続されているアイソレータと増幅器を含むマイクロ波変調器と、 前記マイクロ波変調器の出力に接続されているユニット化した複数のマイクロ波電力増幅器と、 前記各マイクロ波電力増幅器にそれぞれ接続され、それぞれにプラズマ発生用ガスが導入されている同軸共振ヘッドよりなるプラズマガスを発生する複数のマイクロ波プラズマ発生源と、 前記複数のマイクロ波プラズマ発生源を特定の空間に向けて配列する支持構造と、 前記特定の空間に前記プラズマ発生源に関連して配置されているプラズマセンサと、 前記プラズマセンサの出力が接続されており、前記発生源のプラズマ発生の前後のプラズマ振動モードにおけるモードの変化の影響で発生する発振周波数の変化を抑制するとともに、電磁場の分布の変化を利用して電源とプラズマ発生源とのカップリングを最適にする構造を有し、マイクロ波の発振時間と発振の繰り返し時間を制御して前記マイクロ波電力増幅器の出力を制御し、供給電力を制御するプログラムを有し、前記プログラムにしたがって制御信号を前記マイクロ波発振器,前記マイクロ波変調器または前記マイクロ波電力増幅器に接続する制御装置と、 から構成する大気圧大面積プラズマ発生装置。
IPC (4)：
H05H 1/30 ,  H05H 1/00 ,  H05H 1/36 ,  H05H 1/46
FI (4)：
H05H1/30 ,  H05H1/00 A ,  H05H1/36 ,  H05H1/46 R
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (3) Cited by examiner (15)
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