Pat
J-GLOBAL ID:200903009182382798
ポジ型感光性組成物
Inventor:
,
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
小栗 昌平 (外4名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2001069052
Publication number (International publication number):2002268224
Application date: Mar. 12, 2001
Publication date: Sep. 18, 2002
Summary:
【要約】【課題】 輪帯照明を用いた際に高解像力であり、デフォーカスラチチュードが広く、ハーフトーン位相シフトマスクを用いてパターン形成した際にサイドローブが発生し難く、且つ経時保存時にパーティクルが発生し難いポジ型感光性組成物を提供する。【解決手段】 活性光線または放射線の照射により炭素数2〜4のフッ素置換アルカンスルホン酸を発生する化合物と、特定の脂環炭化水素構造を有し、酸の作用により分解しアルカリ現像液中での溶解度が増大する樹脂と、塩基性化合物と、フッ素及び/又はシリコン系界面活性剤とを含有するポジ型感光性組成物。
Claim (excerpt):
(A)活性光線又は放射線の照射により炭素数2〜4のフッ素置換アルカンスルホン酸を発生する化合物、(B)単環又は多環の脂環炭化水素構造を有し、酸の作用により分解し、アルカリ現像液中での溶解度が増大する樹脂、(C)塩基性化合物、及び(D)フッ素及び/又はシリコン系界面活性剤を含有することを特徴とするポジ型感光性組成物。
IPC (7):
G03F 7/039 601
, C08K 5/02
, C08K 5/16
, C08K 5/42
, C08K 5/541
, C08L101/00
, H01L 21/027
FI (7):
G03F 7/039 601
, C08K 5/02
, C08K 5/16
, C08K 5/42
, C08L101/00
, C08K 5/54
, H01L 21/30 502 R
F-Term (38):
2H025AA02
, 2H025AA03
, 2H025AA11
, 2H025AB14
, 2H025AB16
, 2H025AC04
, 2H025AC08
, 2H025AD03
, 2H025BE00
, 2H025BE07
, 2H025BE10
, 2H025BG00
, 2H025CB08
, 2H025CB14
, 2H025CB41
, 2H025CB43
, 2H025CB45
, 2H025CC04
, 2H025CC20
, 2H025FA17
, 4J002BG071
, 4J002BH001
, 4J002CE001
, 4J002EB068
, 4J002EN017
, 4J002ER027
, 4J002EU027
, 4J002EU047
, 4J002EU117
, 4J002EU137
, 4J002EU207
, 4J002EU237
, 4J002EV236
, 4J002EX008
, 4J002FD206
, 4J002FD207
, 4J002FD208
, 4J002GP03
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (14)
-
ポジ型感光性樹脂組成物
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平10-250050
Applicant:富士写真フイルム株式会社
-
遠紫外線露光用ポジ型フォトレジスト組成物
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平11-095374
Applicant:富士写真フイルム株式会社
-
遠紫外線露光用ポジ型フォトレジスト組成物
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平11-152860
Applicant:富士写真フイルム株式会社
-
遠紫外線露光用ポジ型フォトレジスト組成物
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平11-193601
Applicant:富士写真フイルム株式会社
-
遠紫外線露光用ポジ型フォトレジスト組成物
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平11-158695
Applicant:富士写真フイルム株式会社
-
遠紫外線露光用ポジ型フォトレジスト組成物
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平11-193603
Applicant:富士写真フイルム株式会社
-
レジスト材料及びパターン形成方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平11-263257
Applicant:信越化学工業株式会社
-
レジスト材料及びパターン形成方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-108838
Applicant:信越化学工業株式会社
-
レジスト材料及びパターン形成方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2001-075466
Applicant:信越化学工業株式会社
-
レジスト材料及びパターン形成方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2002-012410
Applicant:信越化学工業株式会社
-
高分子化合物、レジスト材料及びパターン形成方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2001-123986
Applicant:信越化学工業株式会社
-
新規なエステル化合物、高分子化合物、レジスト材料、及びパターン形成方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2001-124005
Applicant:信越化学工業株式会社
-
レジスト材料及びパターン形成方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平11-302909
Applicant:信越化学工業株式会社
-
遠紫外線露光用ポジ型フォトレジスト組成物
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平11-095373
Applicant:富士写真フイルム株式会社
Show all
Return to Previous Page