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J-GLOBAL ID:200903032101036795
極微小多探針プローブの製造方法及び表面特性解析装置
Inventor:
,
,
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
坂上 正明
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2002254880
Publication number (International publication number):2004093352
Application date: Aug. 30, 2002
Publication date: Mar. 25, 2004
Summary:
【課題】本発明の課題は、サブミクロン間隔の多探針プローブを製作できる加工法を確立し、そのような極微小多探針プローブを提供することであり、また、その極微小多探針プローブを用いた極端に小さい領域での電気計測において、該計測に影響を及ぼすことの無い位置合わせ機能を備えた半導体デバイス等の極表面解析装置を提供することにある。【解決手段】本発明の極微小多探針プローブ製造方法は、リソグラフィによるマイクロカンチレバー製作手法により複数本のリード部を分離形成すると共に先端部には短絡エリアが形成されたカンチレバーを作成するステップと、集束荷電粒子ビームを用いて前記先端部の短絡エリアをスパッタ若しくはガスアシストエッチング又は、CVD形成により加工し、5μm以下のピッチの探針を形成させるステップとからなる。【選択図】 図2
Claim (excerpt):
リソグラフィによるマイクロカンチレバー製作手法により複数本のリード部を分離形成すると共に先端部には短絡エリアが形成されたカンチレバーを作成するステップと、集束荷電粒子ビームを用いて前記先端部の短絡エリアをスパッタ若しくはガスアシストエッチングにより加工し、探針を形成させるステップとからなる極微小多探針プローブの製造方法。
IPC (7):
G01R1/073
, G01N13/10
, G01N13/12
, G01N13/16
, G12B21/04
, G12B21/08
, H01L21/66
FI (9):
G01R1/073 F
, G01R1/073 A
, G01N13/10 C
, G01N13/12 A
, G01N13/12 D
, G01N13/16 A
, H01L21/66 B
, G12B1/00 601B
, G12B1/00 601D
F-Term (11):
2G011AA13
, 2G011AA15
, 2G011AC06
, 2G011AE03
, 4M106AA01
, 4M106AA02
, 4M106BA01
, 4M106CA01
, 4M106DD03
, 4M106DD05
, 4M106DH51
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (17)
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複数の電極を有するカンチレバーおよびその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2002-186495
Applicant:科学技術振興事業団
-
回路基板及びその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平7-220681
Applicant:電気化学工業株式会社
-
SPM用探針及びその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平4-268757
Applicant:株式会社アドバンテスト
-
熱交換効果を利用した走査型プローブ顕微鏡装置におけるアプローチ方法及びカンチレバー
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平11-168908
Applicant:セイコーインスツルメンツ株式会社
-
微小接触式プローバー
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平11-303804
Applicant:セイコーインスツルメンツ株式会社
-
SPM用探針の製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平4-268758
Applicant:株式会社アドバンテスト
-
走査型プロ-ブ顕微鏡
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平11-009608
Applicant:セイコーインスツルメンツ株式会社
-
プローブ装置、それを用いた加熱方法及び位置決め方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平10-054014
Applicant:セイコーエプソン株式会社
-
走査型トンネル顕微鏡および情報記録装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平5-203884
Applicant:株式会社日立製作所
-
カンチレバーおよび情報処理装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平6-025566
Applicant:株式会社ニコン
-
微小電子源付きカンチレバー
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平8-068642
Applicant:セイコー電子工業株式会社, 工業技術院長
-
静電ナノピンセット及びこれを用いたナノマニピュレータ装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-404006
Applicant:中山喜萬, 大研化学工業株式会社
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ナノピンセット及びこれを用いたナノマニピュレータ装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-112767
Applicant:中山喜萬, 大研化学工業株式会社
-
ナノチューブ、近接場光検出装置および近接場光検出方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2002-116148
Applicant:日本電気株式会社
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多探針プローブ
Gazette classification:公表公報
Application number:特願2000-559436
Applicant:カプレスエイピーエス
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特許第6328902号
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ナノ製造
Gazette classification:公表公報
Application number:特願2002-572644
Applicant:ユニバーシティーオブマサチューセッツ
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