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J-GLOBAL ID：200903065450960675

ポジ型感光性組成物

Inventor：
児玉 邦彦

About 児玉 邦彦

, 
青合 利明

About 青合 利明


Applicant, Patent owner：
富士写真フイルム株式会社

About 富士写真フイルム株式会社


Agent (1)： 小栗 昌平 (外4名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000212946
Publication number (International publication number)：2002023353
Application date： Jul. 13, 2000
Publication date： Jan. 23, 2002
Summary：
【要約】【課題】 遠紫外光、とくにArFエキシマレーザー光を使用する上記ミクロフォトファブリケ-ション本来の性能向上技術の課題を解決することであり、感度、解像力、露光マージンも優れたポジ型感光性組成物を提供すること。【解決手段】活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物、特定の脂環炭化水素構造を有し、酸の作用により分解しアルカリ現像液中での溶解度が増大する樹脂を含有するポジ型感光性組成物。
Claim (excerpt)：
(A)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、(B)単環又は多環の脂環炭化水素構造を有し、酸の作用により分解し、アルカリ現像液中での溶解度が増大する樹脂を含有することを特徴とするポジ型感光性組成物において、該(A)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物が少なくとも1つのフッ素原子及び/又は少なくとも1つのフッ素原子を有する基で置換されたベンゼンスルホン酸、ナフタレンスルホン酸、アントラセンスルホン酸を発生する化合物であることを特徴とするポジ型感光性組成物。
IPC (9)：
G03F 7/004 503 ,  G03F 7/004 501 ,  G03F 7/004 504 ,  C08K 5/00 ,  C08K 5/16 ,  C08K 5/42 ,  C08L101/02 ,  G03F 7/039 601 ,  H01L 21/027
FI (9)：
G03F 7/004 503 A ,  G03F 7/004 501 ,  G03F 7/004 504 ,  C08K 5/00 ,  C08K 5/16 ,  C08K 5/42 ,  C08L101/02 ,  G03F 7/039 601 ,  H01L 21/30 502 R
F-Term (46)：
2H025AA01 ,  2H025AA02 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BE07 ,  2H025BE10 ,  2H025BF02 ,  2H025BF11 ,  2H025BG00 ,  2H025BJ04 ,  2H025CB43 ,  2H025CB55 ,  2H025CC04 ,  2H025CC20 ,  2H025FA17 ,  4J002BC122 ,  4J002BG041 ,  4J002BG051 ,  4J002BG052 ,  4J002BG071 ,  4J002BH021 ,  4J002CC042 ,  4J002CE001 ,  4J002EB116 ,  4J002EH007 ,  4J002EJ017 ,  4J002EL087 ,  4J002EN108 ,  4J002ER028 ,  4J002EU028 ,  4J002EU048 ,  4J002EU078 ,  4J002EU128 ,  4J002EU138 ,  4J002EU186 ,  4J002EU216 ,  4J002EU238 ,  4J002EV046 ,  4J002EV066 ,  4J002EV226 ,  4J002EV246 ,  4J002EV316 ,  4J002FD310 ,  4J002GP03
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (12)
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