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J-GLOBAL ID:200903066322374204
極端紫外光源装置用ドライバレーザシステム
Inventor:
,
,
Applicant, Patent owner:
,
,
Agent (3):
宇都宮 正明
, 渡部 温
, 柳瀬 睦肇
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2004310410
Publication number (International publication number):2006128157
Application date: Oct. 26, 2004
Publication date: May. 18, 2006
Summary:
【課題】 高効率で安定してEUV光を発生させることができるEUV光源装置用ドライバレーザシステムを安価に提供する。 【解決手段】 MOPA(master oscillator power amplifier)方式に従って構成されたレーザシステム3であって、レーザ光を発生し、該レーザ光のパルス幅が所定の値まで短くなるようにレーザ光のパルス幅を制御して、並列して配置された複数のレーザ増幅系304(1)及び304(2)並びに305(1)及び305(2)において該レーザ光を増幅するレーザシステムと、複数のレーザ増幅系からレーザ光が順次出射するようにレーザシステムの動作タイミングを制御するレーザシステム制御装置4とを含む。【選択図】 図3
Claim (excerpt):
レーザ光源から出力されたレーザ光をターゲット物質に照射することにより、前記ターゲット物質をプラズマ化して極端紫外光を発生させる極端紫外光源装置において用いられるドライバレーザシステムであって、
MOPA(master oscillator power amplifier)方式に従って構成されたレーザ光出射手段であって、レーザ光を発生し、該レーザ光のパルス幅が所定の値まで短くなるようにレーザ光のパルス幅を制御して、並列して配置された複数のレーザ増幅系において該レーザ光を増幅する前記レーザ光出射手段と、
前記複数のレーザ増幅系からレーザ光が順次出射するように前記レーザ光出射手段の動作タイミングを制御する制御手段と、
を具備する極端紫外光源装置用ドライバレーザシステム。
IPC (5):
H01S 3/10
, H01S 3/23
, H05G 2/00
, H01L 21/027
, H01S 3/225
FI (5):
H01S3/10 Z
, H01S3/23
, H05G1/00 K
, H01L21/30 531S
, H01S3/223 E
F-Term (23):
4C092AA06
, 4C092AB21
, 4C092AC09
, 5F046GC03
, 5F046GC05
, 5F071AA05
, 5F071EE04
, 5F071GG02
, 5F071HH09
, 5F071JJ02
, 5F071JJ05
, 5F071JJ08
, 5F172AD05
, 5F172DD03
, 5F172DD06
, 5F172EE22
, 5F172NN13
, 5F172NN16
, 5F172NN23
, 5F172NP01
, 5F172ZA02
, 5F172ZA04
, 5F172ZZ02
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (7)
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米国特許US6,307,913B1号明細書(図12、図13)
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レーザー励起X線発生装置及び方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平11-287385
Applicant:株式会社筑波リエゾン研究所
-
米国特許US2004/22295A1号明細書
-
米国特許US5,539,764号明細書
-
米国特許US5,654,998号明細書
-
X線露光装置およびデバイスの製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2002-199217
Applicant:キヤノン株式会社
-
マイクロターゲットを用いた方法及びラジエーション生成システム
Gazette classification:公表公報
Application number:特願2001-534180
Applicant:ジェイエムエーアールリサーチインク
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Cited by examiner (19)
-
マイクロターゲットを用いた方法及びラジエーション生成システム
Gazette classification:公表公報
Application number:特願2001-534180
Applicant:ジェイエムエーアールリサーチインク
-
X線源用フィルタ装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平4-155329
Applicant:株式会社ニコン
-
色素レーザ発振方法及びその装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平10-077632
Applicant:レーザー濃縮技術研究組合, 株式会社東芝
-
パルスX線照射装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平7-343482
Applicant:株式会社ニコン
-
標的材を処理するエネルギー効率に優れたレーザーベースの方法およびシステム
Gazette classification:公表公報
Application number:特願2001-548238
Applicant:ジーエスアイルモニクスインコーポレイテッド
-
低コスト、高平均出力、高輝度ソリツドステートレーザ
Gazette classification:公表公報
Application number:特願平8-516895
Applicant:ジェイ・エム・エー・アール・テクノロジー・カンパニー
-
露光装置及びデバイス製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2003-073637
Applicant:キヤノン株式会社
-
特開平2-263485
-
X線発生方法およびX線発生装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2002-073364
Applicant:川崎重工業株式会社, 日本原子力研究所
-
X線露光装置およびデバイスの製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2002-199217
Applicant:キヤノン株式会社
-
EUV液滴発生器用標的かじ取りシステム
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2003-150266
Applicant:ノースロップ・グラマン・スペイス・アンド・ミッション・システムズ・コーポレーション
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特開平4-267578
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特開平4-012586
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レーザープラズマ極紫外放射線源
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2003-148899
Applicant:ティーアールダブリュー・インコーポレーテッド
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極紫外放射線源のためのノズル
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2003-148892
Applicant:ティーアールダブリュー・インコーポレーテッド
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レーザー励起X線発生装置及び方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平11-287385
Applicant:株式会社筑波リエゾン研究所
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X線発生装置及びこれを有するX線露光装置及びX線の発生方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平11-148395
Applicant:株式会社ニコン
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光パルス発生装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平8-039166
Applicant:株式会社テラテック
-
EUV光源用コレクタ
Gazette classification:公表公報
Application number:特願2006-509850
Applicant:サイマーインコーポレイテッド
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