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J-GLOBAL ID:200903079799025559
電子顕微鏡
Inventor:
,
,
Applicant, Patent owner:
,
,
Agent (1):
鷲田 公一
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2004337967
Publication number (International publication number):2006147430
Application date: Nov. 22, 2004
Publication date: Jun. 08, 2006
Summary:
【課題】 任意の試料(生細胞など生の生物試料を含む)に対して、前処理を全く必要とせず、大気圧の状態で観察を行うことができる電子顕微鏡を提供する。 【解決手段】 真空筐体100に電子透過膜(例えば、コロジオン膜)132付きの微小なオリフィス130を設けて差動排気を行う。また、電子線Bを走査する代わりに、可動ステージ202(特にスキャナ204)を用いて試料Sを走査する。さらに、試料Sを電子透過膜(コロジオン膜)132に近づけて、電子線Bの照射による試料Sからの反射電子R(および二次電子)を、高真空側の上部反射電子検出器304と大気圧側の下部反射電子検出器306(ならびに高真空側の二次電子検出器302)を用いて検出する。 【選択図】 図2
Claim (excerpt):
真空に耐えることができ、かつ、電子に対する透過性を有する電子透過膜と、
前記電子透過膜が取り付けられたオリフィスを一部に有する真空筐体と、
前記真空筐体の内部において電子線を前記電子透過膜に向かって案内する電子線照射手段と、
前記電子透過膜近傍の前記真空筐体の外部に配置され、前記電子線に対して相対移動可能に試料を載置する可動ステージと、
前記電子線の照射に基づく前記試料からの電子を検出する電子検出手段と、
を有することを特徴とする電子顕微鏡。
IPC (4):
H01J 37/28
, G01N 23/225
, H01J 37/16
, H01J 37/244
FI (4):
H01J37/28 B
, G01N23/225
, H01J37/16
, H01J37/244
F-Term (15):
2G001AA03
, 2G001BA07
, 2G001BA15
, 2G001CA03
, 2G001DA06
, 2G001HA13
, 2G001JA02
, 2G001PA11
, 2G001SA01
, 2G001SA04
, 5C033NN01
, 5C033NN02
, 5C033UU03
, 5C033UU04
, 5C033UU10
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (3)
Cited by examiner (12)
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走査電子顕微鏡
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平4-070055
Applicant:株式会社エリオニクス
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電子線描画装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平9-246473
Applicant:株式会社日立製作所
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電子ビーム装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平4-182716
Applicant:富士通株式会社
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特開平3-165435
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低真空走査電子顕微鏡
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平8-136303
Applicant:日本電子株式会社
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特開昭51-042461
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マスクの白欠陥修正方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2001-035797
Applicant:セイコーインスツルメンツ株式会社
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低真空雰囲気型走査電子顕微鏡
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平8-191772
Applicant:株式会社日立製作所, 株式会社日立サイエンスシステムズ
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走査型荷電粒子線顕微鏡
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平3-178735
Applicant:株式会社ニコン
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走査電子顕微鏡
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-106071
Applicant:日本電子株式会社, 日本電子テクニクス株式会社
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走査電子顕微鏡等の低真空二次電子検出装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平11-333834
Applicant:株式会社日立製作所, 株式会社日立サイエンスシステムズ
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電子ビーム装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2002-112489
Applicant:独立行政法人産業技術総合研究所
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