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J-GLOBAL ID:200903082657671110
ポリシロキサンおよび感放射線性樹脂組成物
Inventor:
,
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,
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
福沢 俊明
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2002048643
Publication number (International publication number):2003020335
Application date: Feb. 25, 2002
Publication date: Jan. 24, 2003
Summary:
【要約】【課題】 193nm以下、特に157nm以下、さらには147nm、134nm等の波長においても透明性が高く、かつドライエッチング耐性に優れた新規ポリシロキサンおよび該ポリシロキサンを含有する感放射線性樹脂組成物を提供する。【解決手段】 下記一般式(1)に示す構造単位(I)および/または構造単位(II)を有し、かつ酸により解離する酸解離性基を有するポリシロキサン。【化1】〔一般式(1)において、R1 はフッ素原子あるいはフッ素化アルキル基で置換された1価の芳香族基、またはフッ素原子あるいはフッ素化アルキル基で置換された1価の脂環式基を示し、R2 は前記1価の芳香族基、前記1価の脂環式基、水素原子、ハロゲン原子、1価の炭化水素基、ハロゲン化アルキル基またはアミノ基を示す。〕感放射線性樹脂組成物は、(イ)前記ポリシロキサン並びに(ロ)感放射線性酸発生剤を含有する。
Claim (excerpt):
下記一般式(1)に示す構造単位(I)および/または構造単位(II)を有し、かつ酸により解離する酸解離性基を有する、ゲルパーミエーションクロマトグラフィ(GPC)により測定したポリスチレン換算重量平均分子量が500〜1,000,000のポリシロキサン。【化1】〔一般式(1)において、R1 はフッ素原子および炭素数1〜10のフッ素化アルキル基の群から選ばれる少なくとも1種の基で置換された炭素数6〜20の1価の芳香族基、またはフッ素原子および炭素数1〜10のフッ素化アルキル基の群から選ばれる少なくとも1種の基で置換された炭素数3〜15の1価の脂環式基を示し、R2 はフッ素原子および炭素数1〜10のフッ素化アルキル基の群から選ばれる少なくとも1種の基で置換された炭素数6〜20の1価の芳香族基、フッ素原子および炭素数1〜10のフッ素化アルキル基の群から選ばれる少なくとも1種の基で置換された炭素数3〜15の1価の脂環式基、水素原子、ハロゲン原子、炭素数1〜20の1価の炭化水素基、炭素数1〜20のハロゲン化アルキル基、または1級、2級もしくは3級のアミノ基を示す。〕
IPC (4):
C08G 77/22
, G03F 7/039 601
, G03F 7/075 511
, H01L 21/027
FI (4):
C08G 77/22
, G03F 7/039 601
, G03F 7/075 511
, H01L 21/30 502 R
F-Term (24):
2H025AA01
, 2H025AA02
, 2H025AA03
, 2H025AB16
, 2H025AC03
, 2H025AC05
, 2H025AC06
, 2H025AD03
, 2H025BE00
, 2H025BE10
, 2H025BF30
, 2H025BG00
, 2H025CB08
, 2H025CB33
, 2H025CB41
, 2H025CB55
, 4J035BA02
, 4J035BA04
, 4J035BA12
, 4J035BA14
, 4J035CA16N
, 4J035CA161
, 4J035CA222
, 4J035LB16
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (14)
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ポリシロキサン化合物及びポジ型レジスト材料
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平7-270580
Applicant:信越化学工業株式会社
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新規高分子シリコーン化合物、化学増幅ポジ型レジスト材料及びパターン形成方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平10-058946
Applicant:信越化学工業株式会社
-
高分子シリコーン化合物、化学増幅ポジ型レジスト材料及びパターン形成方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平10-029321
Applicant:信越化学工業株式会社
-
高分子シリコーン化合物、レジスト材料及びパターン形成方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平10-227633
Applicant:信越化学工業株式会社
-
高分子化合物、レジスト材料及びパターン形成方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2001-159834
Applicant:信越化学工業株式会社
-
高分子化合物、レジスト材料及びパターン形成方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2001-070196
Applicant:信越化学工業株式会社, 松下電器産業株式会社, セントラル硝子株式会社
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高分子化合物、レジスト材料及びパターン形成方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2001-070208
Applicant:信越化学工業株式会社, 松下電器産業株式会社, セントラル硝子株式会社
-
高分子化合物、レジスト材料及びパターン形成方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2001-070217
Applicant:信越化学工業株式会社, 松下電器産業株式会社, セントラル硝子株式会社
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高分子化合物、レジスト材料及びパターン形成方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2001-140211
Applicant:信越化学工業株式会社, 松下電器産業株式会社, セントラル硝子株式会社
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ケイ素含有脂環式化合物
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-291089
Applicant:ジェイエスアール株式会社
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ケイ素含有脂環式化合物
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-318752
Applicant:ジェイエスアール株式会社
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ポリシロキサン
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2001-300517
Applicant:ジェイエスアール株式会社
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ポリシロキサン
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2001-019834
Applicant:ジェイエスアール株式会社
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感放射線性樹脂組成物
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2001-077042
Applicant:ジェイエスアール株式会社
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