Pat
J-GLOBAL ID:200903091365846759
有機ハロゲン化物分解処理制御方法
Inventor:
,
,
,
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
光石 俊郎 (外2名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2001170778
Publication number (International publication number):2002360727
Application date: Jun. 06, 2001
Publication date: Dec. 17, 2002
Summary:
【要約】【課題】 迅速且つ高感度な分析が可能な有機微量成分の検出装置及び方法を提供することを課題とする。【解決手段】 加熱・加圧された反応器内において炭酸ナトリウム(Na2 CO3 )の存在下、PCBの脱塩素反応および酸化分解反応により、PCBを塩化ナトリウム(NaCl)、二酸化炭素(CO2)等に分解させる水熱酸化分解装置120と、気液分離装置129で分離された排水133中の残留PCB及び/又はPCB分解生成物のパターンを計測するレーザイオン化時間飛行型質量分析装置100とを具備してなる。
Claim (excerpt):
反応容器内において有機ハロゲン化物を分解させる有機ハロゲン化物分解装置の反応処理後の排水中の有機ハロゲン化物及び/又は有機ハロゲン化物分解生成物の濃度パターンをレーザイオン化時間飛行型質量分析装置で計測し、その有機ハロゲン化物及び/又は有機ハロゲン化物分解生成物の濃度パターンにより、有機ハロゲン化物分解処理を最適条件に制御することを特徴とする有機ハロゲン化物分解処理制御方法。
IPC (9):
A62D 3/00 ZAB
, B01J 3/00
, C07B 37/06
, C07C 25/18
, G01N 27/62
, G01N 27/64
, H01F 27/00
, H01F 27/14
, H01F 41/00
FI (11):
A62D 3/00 ZAB
, B01J 3/00 A
, C07B 37/06
, C07C 25/18
, G01N 27/62 F
, G01N 27/62 K
, G01N 27/62 V
, G01N 27/64 B
, H01F 27/00 B
, H01F 27/14 C
, H01F 41/00 Z
F-Term (12):
2E191BA12
, 2E191BA13
, 2E191BB00
, 2E191BC01
, 2E191BD11
, 4H006AA05
, 4H006AC13
, 4H006AC26
, 4H006BE10
, 4H006BE30
, 4H006EA22
, 5E050FA03
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (14)
-
ハロゲン原子および/または硫黄原子を含む有機化合物の分解処理方法およびその装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平9-324447
Applicant:オルガノ株式会社
-
PCB分解方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平10-062638
Applicant:三菱重工業株式会社
-
含塩素有機化合物の熱水分解方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平10-307354
Applicant:三菱重工業株式会社
-
バッチ式超臨界水反応装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平11-078921
Applicant:オルガノ株式会社
-
超臨界水反応実験装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平11-088546
Applicant:オルガノ株式会社
-
ダイオキシン類分析方法及び装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平11-326444
Applicant:三菱重工業株式会社
-
イオン化分析装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平8-125137
Applicant:浜松ホトニクス株式会社
-
イオン化分析装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平7-111815
Applicant:浜松ホトニクス株式会社
-
MALDI-TOF質量分析装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平8-166825
Applicant:株式会社島津製作所
-
ガス中微量成分のモニタリング方法及び装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平10-157448
Applicant:川崎重工業株式会社
-
二相マイクロフローエレクトロスプレー質量分析法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平11-311017
Applicant:科学技術振興事業団
-
分析対象物の脱着およびイオン化のための方法および装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平11-237646
Applicant:ベイラーカレッジオブメディシン
-
ダイオキシン類分析装置及び燃焼制御システム
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平11-303438
Applicant:三菱重工業株式会社
-
試料分析用モニタ装置及びそれを用いた燃焼制御システム
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平11-329277
Applicant:株式会社日立製作所
Show all
Cited by examiner (14)
-
ダイオキシン類分析方法及び装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平11-326444
Applicant:三菱重工業株式会社
-
ハロゲン原子および/または硫黄原子を含む有機化合物の分解処理方法およびその装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平9-324447
Applicant:オルガノ株式会社
-
PCB分解方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平10-062638
Applicant:三菱重工業株式会社
-
イオン化分析装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平8-125137
Applicant:浜松ホトニクス株式会社
-
イオン化分析装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平7-111815
Applicant:浜松ホトニクス株式会社
-
含塩素有機化合物の熱水分解方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平10-307354
Applicant:三菱重工業株式会社
-
MALDI-TOF質量分析装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平8-166825
Applicant:株式会社島津製作所
-
バッチ式超臨界水反応装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平11-078921
Applicant:オルガノ株式会社
-
ガス中微量成分のモニタリング方法及び装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平10-157448
Applicant:川崎重工業株式会社
-
超臨界水反応実験装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平11-088546
Applicant:オルガノ株式会社
-
二相マイクロフローエレクトロスプレー質量分析法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平11-311017
Applicant:科学技術振興事業団
-
分析対象物の脱着およびイオン化のための方法および装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平11-237646
Applicant:ベイラーカレッジオブメディシン
-
ダイオキシン類分析装置及び燃焼制御システム
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平11-303438
Applicant:三菱重工業株式会社
-
試料分析用モニタ装置及びそれを用いた燃焼制御システム
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平11-329277
Applicant:株式会社日立製作所
Show all
Return to Previous Page