成膜方法及び成膜装置

Inventor： , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：浅井章弘
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2013035472
Publication number (International publication number)：2014007378
Application date： Feb. 26, 2013
Publication date： Jan. 16, 2014
Summary：

【課題】成膜レートを高く維持しつつ膜厚の面内均一性も改善することが可能な成膜方法を提供する。【解決手段】原料ガスと反応ガスとを用いて真空引き可能になされた処理容器4内で被処理体Wの表面に薄膜を形成する成膜方法において、原料ガスと不活性ガスとをガス溜め部33で混合して混合ガスを形成すると共に混合ガスと反応ガスとを処理容器内へ供給して薄膜を形成するようにする。これにより、成膜レートを高く維持しつつ膜厚の面内均一性も改善する。【選択図】図1

Claim (excerpt)：

原料ガスと反応ガスとを用いて真空引き可能になされた処理容器内で被処理体の表面に薄膜を形成する成膜方法において、前記原料ガスと不活性ガスとをガス溜め部で混合して混合ガスを形成すると共に前記混合ガスと前記反応ガスとを前記処理容器内へ供給して前記薄膜を形成するようにしたことを特徴とする成膜方法。

IPC (3)：

H01L 21/31 , H01L 21/318 , C23C 16/455

FI (4)：

H01L21/31 B , H01L21/31 C , H01L21/318 B , C23C16/455

F-Term (35)：

4K030AA06 , 4K030AA13 , 4K030AA18 , 4K030AA20 , 4K030BA29 , 4K030BA40 , 4K030EA01 , 4K030EA03 , 4K030FA01 , 4K030FA10 , 4K030GA02 , 4K030JA06 , 4K030JA11 , 4K030KA09 , 4K030KA24 , 4K030KA28 , 4K030KA41 , 4K030KA49 , 4K030LA15 , 5F045AA06 , 5F045AA08 , 5F045AB33 , 5F045AC05 , 5F045AC12 , 5F045AC15 , 5F045BB02 , 5F045DP19 , 5F045DP28 , 5F045EE19 , 5F045EF09 , 5F058BC08 , 5F058BF04 , 5F058BF07 , 5F058BF24 , 5F058BF30

Patent cited by the Patent：

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