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J-GLOBAL ID:201603003044227304
窒化物半導体発光素子及びその製造方法
Inventor:
,
,
,
Applicant, Patent owner:
,
Agent (3):
長谷川 芳樹
, 黒木 義樹
, 石田 悟
Gazette classification:特許公報
Application number (International application number):2011129449
Publication number (International publication number):2012199502
Patent number:5943407
Application date: Jun. 09, 2011
Publication date: Oct. 18, 2012
Claim (excerpt):
【請求項1】希土類元素と少なくともMgとが添加されており、添加されている希土類元素が、Euであり、添加されているMgの濃度が、1×1017〜3×1019cm-3である窒化物半導体を含む発光層を備えていることを特徴とする窒化物半導体発光素子。
IPC (2):
H01L 33/32 ( 201 0.01)
, C09K 11/08 ( 200 6.01)
FI (2):
H01L 33/00 186
, C09K 11/08 Z
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (12)
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半導体発光素子およびその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2004-016637
Applicant:松下電器産業株式会社
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半導体発光素子およびその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2001-097677
Applicant:シャープ株式会社
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発光装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2008-292559
Applicant:昭和電工株式会社, 独立行政法人物質・材料研究機構
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半導体発光素子及びエピタキシャルウェハ
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2001-029300
Applicant:日立電線株式会社
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光変換のための希土類ドープされた層または基板
Gazette classification:公表公報
Application number:特願2008-555243
Applicant:クリーインコーポレイテッド
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p型活性層を有するIII族窒化物発光装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2003-203763
Applicant:ルミレッズライティングユーエスリミテッドライアビリティカンパニー
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窒化物半導体レーザ素子
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平8-157812
Applicant:日亜化学工業株式会社
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3-5族化合物半導体の結晶性向上方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2004-077841
Applicant:住友化学工業株式会社
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半導体発光素子およびその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平10-258014
Applicant:ソニー株式会社
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半導体発光素子
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2003-076818
Applicant:日本碍子株式会社
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半導体発光素子およびその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2004-169725
Applicant:松下電器産業株式会社
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窒化ガリウム結晶及びウェハ並びに製造方法
Gazette classification:公表公報
Application number:特願2009-537166
Applicant:モメンティブパフォーマンスマテリアルズインコーポレイテッド
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