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J-GLOBAL ID:200903086646663773
半導体発光素子
Inventor:
,
,
,
Applicant, Patent owner:
Agent (2):
細田 益稔
, 青木 純雄
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2003076818
Publication number (International publication number):2004288757
Application date: Mar. 20, 2003
Publication date: Oct. 14, 2004
Summary:
【課題】半導体発光素子の発光効率を向上させる。【解決手段】半導体発光素子10は、基板1、基板1上にエピタキシャル成長した第一の窒化物半導体からなる下地層2、および下地層2上に設けられた第二の窒化物半導体からなる発光層5を備えている。第一の窒化物半導体においてIII属元素の含有量の合計に対するAl含有量が50原子%以上であり、転移密度が1011/cm2以下であり、(002)面におけるX線ロッキングカーブの半値幅が200sec以下である。第二の窒化物半導体が、希土類元素および遷移金属元素からなる群より選ばれた一種以上の元素を添加元素として含んでいる。発光層が1300°C以上の温度で熱処理されている。第二の窒化物半導体において、III属元素の含有量の合計に対するAl含有量が20原子%以上である。【選択図】 図1
Claim (excerpt):
基板、前記基板上にエピタキシャル成長した第一の窒化物半導体からなる下地層、およびこの下地層上に設けられた第二の窒化物半導体からなる発光層を備えている半導体発光素子であって、
前記第一の窒化物半導体においてIII属元素の含有量の合計に対するAl含有量が50原子%以上であり、転移密度が1011/cm2以下であり、(002)面におけるX線ロッキングカーブの半値幅が200秒以下であり、前記第二の窒化物半導体が、希土類元素および遷移金属元素からなる群より選ばれた一種以上の元素を添加元素として含んでおり、前記発光層が1300°C以上の温度で熱処理されており、前記第二の窒化物半導体において、III属元素の含有量の合計に対するAl含有量が20原子%以上であることを特徴とする、半導体発光素子。
IPC (3):
H01L33/00
, C23C16/34
, H01L21/205
FI (3):
H01L33/00 C
, C23C16/34
, H01L21/205
F-Term (31):
4K030AA06
, 4K030AA11
, 4K030AA13
, 4K030AA17
, 4K030BA02
, 4K030BA38
, 4K030BA59
, 4K030CA05
, 4K030CA12
, 4K030DA09
, 4K030JA10
, 4K030LA14
, 4K030LA18
, 5F041AA03
, 5F041CA34
, 5F041CA40
, 5F041CA57
, 5F041CA65
, 5F041CA67
, 5F041CA73
, 5F045AA04
, 5F045AB17
, 5F045AC08
, 5F045AC12
, 5F045AC19
, 5F045AD14
, 5F045AF05
, 5F045AF09
, 5F045BB16
, 5F045CA10
, 5F045DA52
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (12)
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半導体発光素子
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2001-001149
Applicant:日本碍子株式会社
-
希土類イオンをドープした窒化ガリウムおよび可視光発光を達成する方法および構造
Gazette classification:公表公報
Application number:特願2000-600286
Applicant:オハイオユニバーシティー
-
半導体発光素子
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2001-343055
Applicant:日本碍子株式会社
-
半導体受光素子
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2001-266930
Applicant:日本碍子株式会社
-
半導体発光素子およびその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平10-258014
Applicant:ソニー株式会社
-
半導体発光素子
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平7-098824
Applicant:シャープ株式会社
-
3族窒化物半導体発光素子
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平8-199826
Applicant:豊田合成株式会社, 赤崎勇, 天野浩
-
発光素子
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2001-089092
Applicant:日本碍子株式会社
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希土類元素でドーピングされたワイドギャップ半導体により形成した可視光線発光デバイス
Gazette classification:公表公報
Application number:特願2000-614514
Applicant:ユニバーシティーオブシンシナティ
-
発光素子
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平11-184650
Applicant:株式会社東芝
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発光素子
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平11-252776
Applicant:富士ゼロックス株式会社
-
3族窒化物半導体発光素子
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平9-074366
Applicant:豊田合成株式会社
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