特許
J-GLOBAL ID:200903001437058530

ウエハー吸着装置およびその製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 杉村 暁秀 (外9名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平9-067478
公開番号(公開出願番号):特開平10-256358
出願日: 1997年03月06日
公開日(公表日): 1998年09月25日
要約:
【要約】【課題】セラミックス基材を備えるウエハー吸着装置において、吸着面にウエハーを吸着した後にウエハー裏面に付着するパーティクルの個数を、減少させること。【解決手段】静電チャックの吸着面の中心線平均表面粗さRaが0.05μm以下(好ましくは0.01μm以下)になるように加工されている吸着面、または延性加工面からなる吸着面に対して、洗浄用部材を接触させつつ、高純度洗浄剤中で吸着面を洗浄する。次いで、この吸着面を高純度洗浄剤中で超音波洗浄する。好ましくは、洗浄用部材がブラッシング部材であり、超音波洗浄を100kHz以上、1000kHz以下の周波数かつ3.0〜6.0W/cm2 の超音波出力で行う。
請求項(抜粋):
ウエハーを吸着面上に吸着して保持するためのウエハー吸着装置であって、このウエハー吸着装置の基材がセラミックスからなり、前記吸着面が延性加工面からなり、この延性加工面に存在する凹部の直径が0.1μm以下であり、前記ウエハーを前記吸着面に吸着した場合に、前記ウエハーに付着するパーティクルの個数が1cm2 当たり9.3個以下であることを特徴とする、ウエハー吸着装置。
IPC (2件):
H01L 21/68 ,  H02N 13/00
FI (2件):
H01L 21/68 R ,  H02N 13/00 D
引用特許:
審査官引用 (15件)
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