特許
J-GLOBAL ID:200903008748693293

非熱的結晶回復法および微細加工方法

発明者:
出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2002-238557
公開番号(公開出願番号):特開2004-079812
出願日: 2002年08月19日
公開日(公表日): 2004年03月11日
要約:
【課題】損傷した結晶を高温に加熱することなく30°C以下の室温で再結晶化させることのできる非熱的結晶回復法および微細加工法を提供する。【解決手段】結晶性材料(1)の表面(2)および内部(4)に形成された損傷領域(5)に、0.01eV以上90eV以下のビームエネルギーの電子線(6)を照射して非熱的に結晶性を回復させる。【選択図】 図1
請求項(抜粋):
結晶性材料の表面および内部に形成された損傷領域に、0.01eV以上90eV以下のビームエネルギーの電子線を照射して非熱的に結晶性を回復させることを特徴とする非熱的結晶回復法。
IPC (1件):
H01L21/263
FI (1件):
H01L21/263 F
引用特許:
審査官引用 (5件)
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引用文献:
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