特許
J-GLOBAL ID：200903020691894181

ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法

発明者：
水谷 一良

水谷 一良 について


出願人/特許権者：
富士写真フイルム株式会社

富士写真フイルム株式会社 について


代理人 (5件)： 小栗 昌平 ,  本多 弘徳 ,  市川 利光 ,  高松 猛 ,  濱田 百合子
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-015215
公開番号（公開出願番号）：特開2005-208366
出願日： 2004年01月23日
公開日（公表日）： 2005年08月04日
要約：
【課題】パターンプロファイルの形状、感度、解像力、ラインエッジラフネス、溶解コントラストが改善されたポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。【解決手段】(A)特定の基を有する繰り返し単位と、特定の基を有する繰り返し単位とを有する、酸の作用により分解してアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂及び(B)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有するポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法。【選択図】なし
請求項（抜粋）：
(A)下記一般式(X1)又は(X2)で表される基を有する繰り返し単位と、下記一般式(Y1)で表される基を有する繰り返し単位とを有する、酸の作用により分解してアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂及び (B)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物 を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。
IPC (2件)：
G03F7/039 ,  H01L21/027
FI (2件)：
G03F7/039 601 ,  H01L21/30 502R
Fターム (21件)：
2H025AA01 ,  2H025AA02 ,  2H025AA03 ,  2H025AA04 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC05 ,  2H025AC06 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025CB08 ,  2H025CB14 ,  2H025CB16 ,  2H025CB17 ,  2H025CB41 ,  2H025CB43 ,  2H025CB45 ,  2H025FA17
引用特許：
出願人引用 (4件)
  • 米国特許第4,491,628号明細書
  • 欧州特許第29,139号明細書
  • 感放射線性樹脂組成物
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-136075   出願人：日本合成ゴム株式会社
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審査官引用 (16件)
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