特許
J-GLOBAL ID：200903021691800701
研磨パッド
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (3件)：
梶崎 弘一
, 尾崎 雄三
, 谷口 俊彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-102069
公開番号（公開出願番号）：特開2007-276009
出願日： 2006年04月03日
公開日（公表日）： 2007年10月25日
要約：
【課題】 研磨を行っている状態で高精度の光学終点検知を可能とし、長期間使用した場合であっても研磨領域と光透過領域との間からのスラリー漏れを防止することができる研磨パッド及びその製造方法を提供する。【解決手段】 開口部10を有する研磨領域8と、開口部11を有するクッション層12とが、開口部10と開口部11が重なるように積層されており、前記開口部11内に該開口を塞ぐ透水防止部材13が自己接着により設けられており、さらに前記開口部10内、かつ前記透水防止部材上に光透過領域9が直接設けられている研磨パッド。【選択図】 図4
請求項（抜粋）：
開口部Aを有する研磨領域と、開口部Bを有するクッション層とが、開口部Aと開口部Bが重なるように積層されており、前記開口部B内に該開口を塞ぐ透水防止部材が自己接着により設けられており、さらに前記開口部A内かつ前記透水防止部材上に光透過領域が直接設けられている研磨パッド。
IPC (3件)：
B24B 37/00
, B24B 37/04
, H01L 21/304
B24B37/00 C
, B24B37/04 K
, H01L21/304 622F
, H01L21/304 622S
3C058AA07
, 3C058AA09
, 3C058CA01
, 3C058CB01
, 3C058DA12
出願人引用 (6件)
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審査官引用 (8件)
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