プラズマ源、処理装置及び処理方法

発明者： , ,
出願人/特許権者： ,
代理人 (3件)：松山允之 , 池上徹真 , 須藤章
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-196931
公開番号（公開出願番号）：特開2008-027657
出願日： 2006年07月19日
公開日（公表日）： 2008年02月07日
要約：

【課題】プラズマ中に不要なガスが混入しないようにすることにある。【解決手段】プラズマを発生するプラズマ発生部と、液体カーテンを形成する液体供給部を備え、プラズマを液体カーテンで覆う、プラズマ源にあり、又は、プラズマを液体カーテンで覆う液体供給部と、液体供給部に対向して配置され、被処理物を保持する保持部と、を備え、液体カーテンで覆われたプラズマで被処理物を処理する、処理装置にあり、又は、液体カーテンを形成し、液体カーテン内に液体又はミストを供給し、液体カーテン内にプラズマを形成し、被処理物を処理する、処理方法にある。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

プラズマを発生するプラズマ発生部と、液体カーテンを形成する液体供給部を備え、プラズマを液体カーテンで覆う、プラズマ源。

IPC (3件)：

H05H 1/24 , B01J 19/08 , H01L 21/306

FI (3件)：

H05H1/24 , B01J19/08 E , H01L21/302 104H

Fターム (11件)：

4G075AA22 , 4G075BB02 , 4G075BD17 , 4G075CA47 , 4G075EA06 , 4G075EB41 , 4G075EC03 , 5F004BA20 , 5F004BB25 , 5F004BB32 , 5F004BD01

引用特許：

審査官引用 (13件)

特開昭57-001998
特開平4-341552
インダクシヨンプラズマトーチ
公報種別：公開公報出願番号：特願平3-323751 出願人：株式会社三社電機製作所

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