特許
J-GLOBAL ID：200903046120796351
現像装置および現像方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
杉谷 勉
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-029963
公開番号（公開出願番号）：特開2007-214200
出願日： 2006年02月07日
公開日（公表日）： 2007年08月23日
要約：
【課題】第1に、基板の接触角が大きいことに起因する現像欠陥の発生を防止することができる現像装置および現像方法を提供することを目的とする。また、第2に、基板に現像処理を行う時間を短縮することができる現像装置および現像方法を提供する。【解決手段】 現像液とリンス液と窒素ガスとを吐出する一体ノズル11を、平面視で基板Wの回転中心C付近に配置する。制御部51は、電磁開閉弁25、33a、33b、39を操作することで、現像過程では基板を回転させつつ現像液の供給を継続し、リンス過程では現像液の供給を終了した直後にリンス液の供給を開始して、現像過程の期間を短縮する。また、リンス過程が終了した直後に窒素ガスの供給を開始して乾燥過程に移行する。これにより、基板Wの基板の接触角が大きくても、リンス液の粒が発生することを抑制して現像欠陥を防止する。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
基板に現像処理を行う現像装置であって、
基板を回転可能に保持する回転保持手段と、
現像液を基板に供給する現像液ノズルと、
リンス液を基板に供給するリンス液ノズルと、
不活性ガスを基板に供給する不活性ガスノズルと、
基板の回転と、現像液、リンス液、および不活性ガスの供給を制御する制御手段と、
を備え、
前記リンス液ノズルと前記不活性ガスノズルとは、平面視でそれぞれ基板の回転中心付近の位置において並設され、
前記制御手段は、基板を回転させつつ回転中心付近にリンス液を供給した後であって、基板上にリンス液の液膜が存在している間に、回転中心付近に不活性ガスの供給を開始することを特徴とする現像装置。
IPC (2件)：
FI (2件)：
H01L21/30 569C
, G03F7/30 501
2H096AA25
, 2H096BA01
, 2H096BA09
, 2H096GA17
, 2H096GA30
, 2H096JA04
, 5F046LA01
, 5F046LA03
, 5F046LA04
出願人引用 (1件)
-
基板処理装置
公報種別：公開公報
出願番号：特願2002-035183
出願人：大日本スクリーン製造株式会社
審査官引用 (12件)
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