フォトレジスト組成物

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：千田稔 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-308695
公開番号（公開出願番号）：特開2001-272783
出願日： 2000年10月10日
公開日（公表日）： 2001年10月05日
要約：

【要約】【課題】特に200nm以下の波長、特に193nmに対して良好な透明性を示すとともに、プラズマエッチャントに対して良好な耐性を示す新規なレジストの提供。【解決手段】1)エステル基がポリマーの全単位の約30から60モル%の量で存在する、脂環式基を有するフォト酸レイビルエステル基、および2)ポリマーの全単位の約20から50モル%の量で存在するニトリル基の繰り返し単位を有するポリマーを含む樹脂バインダー、ならびに光活性成分を含むフォトレジスト組成物であって、該ポリマーが少なくとも実質的に芳香族基を含有しないフォトレジスト組成物。

請求項（抜粋）：

1)エステル基がポリマーの全単位の約30から60モル%の量で存在する、脂環式基を有するフォト酸レイビルエステル基、および2)ポリマーの全単位の約20から50モル%の量で存在するニトリル基の繰り返し単位を有するポリマーを含む樹脂バインダー、ならびに光活性成分を含むフォトレジスト組成物であって、該ポリマーが少なくとも実質的に芳香族基を含有しないフォトレジスト組成物。

IPC (7件)：

G03F 7/039 601 , C07C 69/54 , C08K 5/00 , C08L 33/08 , C08L 33/10 , C08L 33/20 , C08L101/08

FI (7件)：

G03F 7/039 601 , C07C 69/54 B , C08K 5/00 , C08L 33/08 , C08L 33/10 , C08L 33/20 , C08L101/08

Fターム (27件)：

2H025AA00 , 2H025AA09 , 2H025AC01 , 2H025AC04 , 2H025AC08 , 2H025AD03 , 2H025BE00 , 2H025BG00 , 2H025FA03 , 2H025FA12 , 2H025FA17 , 4H006AA01 , 4H006AB76 , 4H006BJ20 , 4H006BJ30 , 4H006BM10 , 4H006BM71 , 4H006KA14 , 4H006KE20 , 4J002BG041 , 4J002BG051 , 4J002BG071 , 4J002BG111 , 4J002EV246 , 4J002EV256 , 4J002FD206 , 4J002GP03

引用特許：

審査官引用 (15件)

レジスト材料及びレジストパターンの形成方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-050264 出願人：富士通株式会社
レジスト材料及びレジストパターンの形成方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-112698 出願人：富士通株式会社
ポジ型感光性組成物
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-046000 出願人：富士写真フイルム株式会社

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