アラインメントマーク及びこのようなアラインメントマークを備える基板の位置合わせ方法

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出願人/特許権者：
代理人 (2件)：稲葉良幸 , 大貫敏史
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-019370
公開番号（公開出願番号）：特開2009-188404
出願日： 2009年01月30日
公開日（公表日）： 2009年08月20日
要約：

【課題】マークラインによって形成される周期的構造を含むアラインメントマークについて説明する。【解決手段】アラインメントマークは基板のスクライブライン内に形成され、スクライブラインはスクライブライン方向に延在する。アラインメントマークは、第一方向に延在する第一マークラインによって形成された第一周期的構造を含む第一領域であって、第一方向がスクライブライン方向に対して第一角度αであり、0°<α<90°である、第一領域と、第二方向に延在する第二マークラインによって形成された第二周期的構造を備える第二領域であって、第二方向がスクライブライン方向に対して第二角度βであり、-90°≦β<0°である、第二領域とを含む。【選択図】図2

請求項（抜粋）：

マークラインによって形成された周期的構造を備えるアラインメントマークであって、該アラインメントマークが基板のスクライブライン内に形成され、該スクライブラインがスクライブライン方向に延在し、該アライメントマークが、 -第一方向に延在する第一マークラインによって形成された第一周期的構造を含む第一領域であって、前記第一方向が前記スクライブライン方向に対して第一角度αにあり、0°<α<90°である、該第一領域と、 -第二方向に延在する第二マークラインによって形成された第二周期的構造を含む第二領域であって、前記第二方向が前記スクライブライン方向に対して第二角度βにあり、-90°≦β<0°である、該第二領域とを備える、アラインメントマーク。

IPC (1件)：

H01L 21/027

FI (3件)：

H01L21/30 523 , H01L21/30 522B , H01L21/30 522D

Fターム (4件)：

5F046EA03 , 5F046EA07 , 5F046EB01 , 5F046EB07

引用特許：

審査官引用 (23件)

投影露光装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平6-127481 出願人：株式会社ニコン
特開昭63-164316
格子テストパターン及びオーバレイ計測法
公報種別：公表公報出願番号：特願2002-568415 出願人：ティンバーテクノロジーズ,インコーポレイティド

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