角度分解したスペクトロスコピーリソグラフィの特性解析方法および装置

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (3件)：稲葉良幸 , 大賀眞司 , 大貫敏史
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-156383
公開番号（公開出願番号）：特開2008-021984
出願日： 2007年06月13日
公開日（公表日）： 2008年01月31日
要約：

【課題】投影露光のアライメントにおいて、オーバーレイマーカー格子のピッチより大きいオーバーレイエラーを認識することの可能なオーバーレイシステムを提供する。【解決手段】基板上のオーバーレイターゲットが2組の格子を含む。第1の組がピッチP1を有し、第2の組がピッチP2を有し、各組が各組の第1の格子にほぼ垂直に配向された格子を含む。レジスト層をその下の層にアライメントさせるとき、上層上に同じオーバーレイマークを設け、上層および下層上の各オーバーレイターゲットの相対位置を、オーバーレイターゲット上にオーバーレイビームを照射し、反射ビームの回折スペクトルを測定することによって比較する。各格子内に異なるピッチを有する2組のオーバーレイターゲットを設けることによって、オーバーレイ格子のうちどちらか1つのピッチよりも大きいオーバーレイ誤差の測定が可能となる。【選択図】図4

請求項（抜粋）：

オーバーレイターゲットを含む基板であって、前記オーバーレイターゲットが2つ以上の重ね合わせ層を含み、各層が似ているオーバーレイターゲットを含み、各層内の前記オーバーレイターゲットが2つ以上の格子を含み、前記格子が互いに異なるピッチを有する、基板。

IPC (2件)：

H01L 21/027 , G03F 9/00

FI (2件)：

H01L21/30 522D , G03F9/00 H

Fターム (4件)：

5F046EA07 , 5F046EA09 , 5F046EB01 , 5F046EB07

引用特許：

審査官引用 (31件)

特開昭53-137673
特開昭63-153818
特開昭63-260045

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