脂環構造含有化合物、(メタ)アクリル酸エステル類、(メタ)アクリル系重合体並びにそれを含むポジ型レジスト組成物

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：大谷保 , 東平正道
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-135927
公開番号（公開出願番号）：特開2009-280538
出願日： 2008年05月23日
公開日（公表日）： 2009年12月03日
要約：

【課題】半導体装置製造に用いられるフォトレジスト用モノマー原料や該モノマーなどとして有用な、露光感度、溶解性、相溶性、ディフェクト低減、ラフネス改善等に優れた脂環構造含有化合物、(メタ)アクリル酸エステル類及びその製造方法、(メタ)アクリル系重合体並びにポジ型レジスト用組成物を提供すること。【解決手段】エステル結合を有する連結基及びエーテル結合を有する連結基を含む脂環構造含有化合物、該脂環構造含有化合物から誘導される(メタ)アクリル酸エステル類及びその製造方法、該(メタ)アクリル酸エステル類に基づく単量体単位を含む(メタ)アクリル系重合体並びに該(メタ)アクリル系重合体を含有するポジ型レジスト組成物である。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

下記一般式(I)で表される脂環構造含有化合物。 R1-L-X (I) (式中、R1は、下記一般式(i)で示される炭素数5〜20の脂環構造含有基であり、Lは、下記一般式(ii)で示される連結基であり、Xは、ハロゲン原子又は水酸基である。)

IPC (6件)：

C07C 69/63 , C08F 20/28 , C07C 69/653 , C07C 67/10 , G03F 7/039 , H01L 21/027

FI (6件)：

C07C69/63 , C08F20/28 , C07C69/653 , C07C67/10 , G03F7/039 601 , H01L21/30 502R

Fターム (42件)：

2H025AA01 , 2H025AA03 , 2H025AA04 , 2H025AB16 , 2H025AC04 , 2H025AC08 , 2H025AD03 , 2H025BE07 , 2H025BF02 , 2H025BG00 , 2H025FA17 , 4H006AA01 , 4H006AA02 , 4H006AA03 , 4H006AB46 , 4H006AB92 , 4H006AC48 , 4H006BA92 , 4H006BB15 , 4H006BB20 , 4H006BB31 , 4H006BJ30 , 4H006BP20 , 4J100AL08P , 4J100AL08Q , 4J100BA02P , 4J100BA03P , 4J100BA11P , 4J100BA15P , 4J100BA40P , 4J100BB07P , 4J100BC02P , 4J100BC03P , 4J100BC04P , 4J100BC07P , 4J100BC09P , 4J100BC12P , 4J100BC53Q , 4J100BC58P , 4J100CA01 , 4J100CA03 , 4J100JA38

引用特許：

出願人引用 (10件)

特開平4-39665号公報
レジスト材料並びにこれを用いたパターン形成方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2005-107428 出願人：信越化学工業株式会社
化学増幅型ポジ型レジスト組成物及び(メタ)アクリル酸誘導体とその製法
公報種別：公開公報出願番号：特願2005-050664 出願人：住友化学株式会社

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審査官引用 (7件)

ヒドロナフタレン誘導体
公報種別：公開公報出願番号：特願平11-291543 出願人：東亞合成株式会社
高分子化合物及びその製造方法、並びにレジスト材料及びパターン形成方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2008-080605 出願人：信越化学工業株式会社, 三井化学株式会社
ポジ型レジスト組成物及びパターン形成方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2008-195372 出願人：富士フイルム株式会社

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引用文献：

審査官引用 (6件)

CHEMICAL ABSTRACTS, 1953, vol. 47, abstract no.12236D-I
Vinyl ethers containing an epoxy group. XVIII. Reactions with carboxylic acids
Carbon-13 NMR spectra of a series of acetals and acylal-acetals of higher aliphatic aldehydes

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