特許

J-GLOBAL ID：200903087081440585

プロセスガス供給ユニット

発明者： 須藤 良久 ,  五島 憲一 ,  新田 慎一 ,  松岡 祐二 ,  伊藤 稔
出願人/特許権者： シーケーディ株式会社
代理人 (1件)： 富澤 孝 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-034947
公開番号（公開出願番号）：特開2001-227657
出願日： 2000年02月14日
公開日（公表日）： 2001年08月24日
要約：

【要約】【課題】 コンパクトで軽量なガス供給ユニットを提供すること。【解決手段】 本発明のプロセスガス供給ユニット1は、逆止弁3、パージ弁4、遮断機能付きレギュレータ5、マスフローコントローラ6、及びガス供給弁7を、流路の形成された一つのベースブロック2に搭載したもの。

請求項（抜粋）：

逆止弁、パージ弁、遮断機能付きレギュレータ、マスフローコントローラ、及びガス供給弁を、流路の形成された一つのベースブロックに搭載したことを特徴とするプロセスガス供給ユニット。

IPC (2件)：

F16K 11/00 ,  F16K 27/00

FI (2件)：

F16K 11/00 Z ,  F16K 27/00 Z

Fターム (11件)：

3H051BB02 ,  3H051CC01 ,  3H051FF01 ,  3H067AA33 ,  3H067BB08 ,  3H067CC32 ,  3H067CC33 ,  3H067EC23 ,  3H067FF29 ,  3H067GG05 ,  3H067GG28

引用特許：

審査官引用 (15件)

• 流体制御装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-029996   出願人：大見忠弘, 株式会社フジキン
• プロセスガス供給ユニット
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-130210   出願人：シーケーディ株式会社
• プロセスガス供給ユニット
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-137284   出願人：シーケーディ株式会社
• プロセスガス供給ユニット
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-122525   出願人：シーケーディ株式会社
• ガス制御装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-135266   出願人：株式会社本山製作所
• バルブ
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-059459   出願人：株式会社本山製作所
• 純水流量の制御装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-327309   出願人：シーケーディ株式会社
• 半導体装置用電子制御レギュレータ
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-105494   出願人：シーケーディ株式会社
• 弁装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平3-335798   出願人：日本テキサス・インスツルメンツ株式会社
• ガス制御バルブ
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-145005   出願人：シーケーディ株式会社
• 評価方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-013974   出願人：山武ハネウエル株式会社
• マスフローコントローラ
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-207840   出願人：日立金属株式会社
• マスフローコントローラ
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-340316   出願人：シーケーディ株式会社
• 電空変換器の出力制御方法およびシステム
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-170910   出願人：山武ハネウエル株式会社
• プロセスガス供給ユニット
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-187066   出願人：シーケーディ株式会社, 株式会社東芝