フォトマスク製造用ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (5件)：棚井澄雄 , 志賀正武 , 青山正和 , 鈴木三義 , 柳井則子
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-351702
公開番号（公開出願番号）：特開2006-162797
出願日： 2004年12月03日
公開日（公表日）： 2006年06月22日
要約：

【課題】寸法制御性に優れたフォトマスク製造用ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法を提供する。【解決手段】アルカリ可溶性の構成単位(a1)と、酸解離性溶解抑制基を有する構成単位(a2)とを有し、酸の作用によりアルカリ可溶性が増大する樹脂成分(A)と、露光により酸を発生する酸発生剤成分(B)とを含有し、前記構成単位(a1)が、(α-メチル)ヒドロキシスチレンから誘導される構成単位(a11)を有し、前記構成単位(a2)が、下記一般式(II)で表される酸解離性溶解抑制基(II)と、鎖状第3級アルコキシカルボニル基、鎖状第3級アルキル基、および鎖状第3級アルコキシカルボニルアルキル基からなる群から選択される少なくとも1種の酸解離性溶解抑制基(III)とを有するフォトマスク製造用ポジ型レジスト組成物。【化1】【選択図】なし

請求項（抜粋）：

アルカリ可溶性の構成単位(a1)と、酸解離性溶解抑制基を有する構成単位(a2)とを有し、酸の作用によりアルカリ可溶性が増大する樹脂成分(A)と、露光により酸を発生する酸発生剤成分(B)とを含有し、前記構成単位(a1)が、(α-メチル)ヒドロキシスチレンから誘導される構成単位(a11)を有し、前記構成単位(a2)が、下記一般式(II)

IPC (3件)：

G03F 7/039 , G03F 7/033 , H01L 21/027

FI (3件)：

G03F7/039 601 , G03F7/033 , H01L21/30 502R

Fターム (16件)：

2H025AA02 , 2H025AA03 , 2H025AB20 , 2H025AC04 , 2H025AC06 , 2H025AC08 , 2H025AD03 , 2H025BE00 , 2H025BE10 , 2H025BG00 , 2H025CB16 , 2H025CB17 , 2H025CB45 , 2H025CC20 , 2H025FA10 , 2H025FA17

引用特許：

出願人引用 (1件)

電子線またはX線用ポジ型レジスト組成物
公報種別：公開公報出願番号：特願2001-142185 出願人：富士写真フイルム株式会社

審査官引用 (14件)

感放射線性樹脂組成物
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-318802 出願人：ジェイエスアール株式会社
感放射線性樹脂組成物
公報種別：公開公報出願番号：特願2000-350227 出願人：ジェイエスアール株式会社
アセタール/脂環式ポリマーおよびフォトレジスト組成物
公報種別：公開公報出願番号：特願2002-296564 出願人：シップレーカンパニーエルエルシー

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