特許
J-GLOBAL ID：200903098761226741

シロキサン重合体とその製造方法、該重合体を含有する多孔質膜形成用塗布液ならびに多孔質膜と、該多孔質膜を用いた半導体装置

発明者：
八木橋 不二夫

八木橋 不二夫 について

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濱田 吉隆

濱田 吉隆 について

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浅野 健

浅野 健 について

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岩淵 元亮

岩淵 元亮 について

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中川 秀夫

中川 秀夫 について

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笹子 勝

笹子 勝 について


出願人/特許権者：
信越化学工業株式会社

信越化学工業株式会社 について

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松下電器産業株式会社

松下電器産業株式会社 について


代理人 (4件)： 奥山 尚一 ,  有原 幸一 ,  松島 鉄男 ,  河村 英文
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-036344
公開番号（公開出願番号）：特開2008-201832
出願日： 2007年02月16日
公開日（公表日）： 2008年09月04日
要約：
【解決課題】 工業的に好ましい材料であるシロキサン重合体を用いて、従来のシロキサン重合体によるものよりも機械強度に優れる多孔質膜を形成し得る、新たな方法により合成されたシロキサン重合体、それを含有する膜形成用組成物、多孔質膜の形成方法及び形成された多孔質膜、並びに、この多孔質膜を内蔵する高性能かつ高信頼性を備えた半導体装置を提供する。【解決手段】 加水分解性シラン化合物の加水分解縮合によるシロキサン重合体の製造方法において、一般式(1)(SiO1.5-O)nn-X+n (1)(但し、XはNR4を表し、Rは炭素数1〜4の直鎖状または分岐状のアルキル基を表し、各々独立して互いに同じでも異なってもよい。また、nは6から24の整数を表す。)で表されるシルセスキオキサンのケージ化合物塩を準備し、該シルセスキオキサンのケージ化合物塩に、加水分解性シランを加水分解して縮合したシロキサン重合体を用いる。【選択図】 なし
請求項（抜粋）：
加水分解性シラン化合物の加水分解縮合によるシロキサン重合体の製造方法において、一般式(1) (SiO1.5-O)nn-X+n (1) (但し、XはNR4を表し、Rは炭素数1〜4の直鎖状または分岐状のアルキル基を表し、各々独立して互いに同じでも異なってもよい。また、nは6から24の整数を表す。) で表されるシルセスキオキサンのケージ化合物の塩またはその水溶液を準備し、該シルセスキオキサンケージ化合物のシラノール末端に、加水分解性シランを加水分解して縮合するシロキサン重合体の製造方法。
IPC (4件)：
C08G 77/06 ,  H01L 21/312 ,  H01L 21/316 ,  H01L 21/768
FI (4件)：
C08G77/06 ,  H01L21/312 C ,  H01L21/316 G ,  H01L21/90 Q
Fターム (50件)：
4J246AA03 ,  4J246AB07 ,  4J246AB15 ,  4J246BA26X ,  4J246BA260 ,  4J246BA270 ,  4J246BB02X ,  4J246BB020 ,  4J246BB021 ,  4J246BB022 ,  4J246CA230 ,  4J246CA24X ,  4J246CA250 ,  4J246FA071 ,  4J246FA131 ,  4J246FA171 ,  4J246FA421 ,  4J246FB081 ,  4J246FE18 ,  4J246GB18 ,  4J246GB33 ,  4J246GC01 ,  4J246GC53 ,  4J246HA62 ,  4J246HA65 ,  5F033GG01 ,  5F033GG02 ,  5F033RR01 ,  5F033RR09 ,  5F033RR21 ,  5F033RR23 ,  5F033RR25 ,  5F033RR29 ,  5F033XX24 ,  5F058AA10 ,  5F058AC03 ,  5F058AD05 ,  5F058AF04 ,  5F058AG01 ,  5F058AG09 ,  5F058AG10 ,  5F058AH02 ,  5F058BA20 ,  5F058BC02 ,  5F058BC05 ,  5F058BD04 ,  5F058BD07 ,  5F058BF46 ,  5F058BH01 ,  5F058BJ02
引用特許：
出願人引用 (6件)
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審査官引用 (13件)
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