特許
J-GLOBAL ID：200903099788285975
アラインメントシステムおよび方法およびそれにより製造したデバイス
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (4件)：
浅村 皓
, 浅村 肇
, 森 徹
, 吉田 裕
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-140460
公開番号（公開出願番号）：特開2005-328061
出願日： 2005年05月13日
公開日（公表日）： 2005年11月24日
要約：
【課題】リソグラフィ装置の基板上で基板アラインメントマークを、またはオーバレイ計量装置でオーバレイ計量目標を自動的に選択する配置構成および方法を提供する。【解決手段】メモリは、選択に使用可能な1つまたは複数のセットの基板アラインメントマークまたはオーバレイ計量目標の位置と、この少なくとも1つのセットから適切な基板アラインメントマークまたはオーバレイ計量目標を選択する選択規則とを記憶する。選択規則は、1つまたは複数の選択基準に基づいて基板アラインメントマークまたはオーバレイ計量目標の位置が最適になる実験的および理論的知識のうち少なくとも1つに基づく。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
リソグラフィ装置の基板上のアラインメントマークを自動的に選択する配置構成で、
プロセッサと、
プロセッサに動作可能な状態で相互接続したメモリとを有し、メモリは、選択に使用可能な少なくとも1セットの基板アラインメントマークの位置と、この少なくとも1つのセットから適切な基板アラインメントマークを選択する選択規則とを含む、機械で読み取り可能な情報を含み、
選択規則は、1つまたは複数の選択基準に基づいて基板アラインメントマークの位置が最適になる実験的および理論的知識のうち少なくとも1つに基づき、プロセッサは、前記選択規則を使用することによって前記適切な基板アラインメントマークを選択するように構成される配置構成。
IPC (2件)：
FI (2件)：
H01L21/30 523
, G03F7/20 521
5F046BA04
, 5F046EB01
, 5F046EB03
, 5F046EB06
, 5F046EB07
, 5F046FC04
, 5F046FC06
