特許
J-GLOBAL ID：201003025269883960
透過型電子顕微鏡法用サンプルの作成方法および装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
田辺 徹
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-231486
公開番号（公開出願番号）：特開2010-091562
出願日： 2009年10月05日
公開日（公表日）： 2010年04月22日
要約：
【課題】 サンプルが、効果的に区域限定されかつ再現されるような形で迅速に作成されることを可能にすると共に、多数の異なるサンプル材料に関して損傷を殆ど引き起こさない透過型電子顕微鏡法用サンプルの作成方法、および該方法を実施するのに適した装置を提供する。【解決手段】 透過型電子顕微鏡法用サンプルの作成方法の場合、サンプルはサンプル材料の基材(110)から準備される。この目的のため、サンプル材料は、該サンプル材料中に脆弱路(301)を作成するべく、レーザービームにより照射軌道に沿って照射される。該照射は、上記脆弱路が、サンプル材料中を走る、レーザー照射によって同様に作成されるのが好ましい更なる脆弱路(302)に交差領域(305)において鋭角で交差するよう制御されている。基材は脆弱路に沿って切り離される。これにより、裂け目表面によって囲まれたくさび形のサンプル部を有すると共に、くさびの先端領域に少なくとも1個の電子透過領域を有するサンプルが作成される。【選択図】図2
請求項（抜粋）：
くさび面に囲まれ、くさび先端領域に少なくとも1個の電子透過領域を有するくさび形のサンプル部を備えたサンプル(250)がサンプル材料の基材(110)から準備される、透過型電子顕微鏡法用サンプルの作成方法であって、
前記サンプル材料中に第1の脆弱路(201,301)を作り出すために前記サンプル材料をレーザービーム(125)により第1の照射軌道に沿って照射する段階と、
前記基材を前記第1の脆弱路に沿い、かつ第2の脆弱路に沿って切り離す段階とを含み、
前記照射が,前記第1の脆弱路が前記サンプル材料の中を走る前記第2の脆弱路(202,302)に交差領域(205,305,405)において鋭角で交差するよう制御されていることを特徴とする、透過型電子顕微鏡法用サンプルの作成方法。
IPC (1件)：
FI (2件)：
Fターム (8件)：
2G052AA13
, 2G052AA14
, 2G052AA15
, 2G052AA21
, 2G052AD32
, 2G052AD52
, 2G052EC17
, 2G052GA34
