特許
J-GLOBAL ID：201003062723191736
リソグラフィ較正のための方法及びシステム
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
稲葉 良幸
, 大貫 敏史
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-249693
公開番号（公開出願番号）：特開2010-114444
出願日： 2009年10月30日
公開日（公表日）： 2010年05月20日
要約：
【課題】複数のフィーチャを有するターゲット設計を結像するために使用されるリソグラフィプロセスの結像性能をシミュレートすることに基づく効率的光学及びレジストパラメータ較正の方法を提供する。【解決手段】この方法は、シミュレートされた像を生成するための関数を決定するステップであって、その関数がリソグラフィプロセスに関連するプロセス変動を説明するステップと、その関数を使用してシミュレートされた像を生成するステップであって、シミュレートされた像がリソグラフィプロセスに関するターゲット設計の結像結果を表すステップとを含む。リソグラフィプロセスの較正のためのシステム及び方法であって、それにより、光学システムの公称構成について多項式フィットが計算され、それを使用して他の構成に関するクリティカルディメンションを推定することができる。【選択図】図3
請求項（抜粋）：
フォトリソグラフィシステムを較正する方法であって、フォトリソグラフィプロセスの構成を使用して生成された回路パターンの複数の測定寸法を入手すること、前記フォトリソグラフィプロセスの前記構成のモデルを使用して前記回路パターンの複数の推定寸法を生成すること、前記回路パターンのうちの特定のものについて、前記構成に関連する前記推定寸法と定義済みパラメータとの多項式フィットを計算すること、前記多項式フィットに基づいて前記フォトリソグラフィプロセスを較正することを含み、前記フォトリソグラフィプロセスを較正することが、最適化アルゴリズムを使用して前記推定寸法と前記測定寸法との差を最小限にするステップを含む、方法。
IPC (2件)：
FI (3件)：
H01L21/30 502G
, H01L21/30 516D
, G03F1/08 A
2H095BB02
, 5F046AA28
, 5F046DA02
