特許
J-GLOBAL ID：201003063546868972
欠陥検査装置および欠陥検査方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (5件)：
吉武 賢次
, 佐藤 泰和
, 吉元 弘
, 川崎 康
, 箱崎 幸雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-004802
公開番号（公開出願番号）：特開2010-164333
出願日： 2009年01月13日
公開日（公表日）： 2010年07月29日
要約：
【課題】検査パターンと参照パターンとの比較を行う欠陥検査法に関し、検査対象パターンの微小な変動による擬似欠陥の発生を防ぎ、微小な欠陥を感度良く検出する。【解決手段】検査パターンの画像を取得する工程と、前記画像から前記検査パターンの輪郭を検出する工程と、検出された輪郭を境界として前記画像を検査領域と非検査領域とに分割する工程と、前記画像の濃度分布を求めるための画像処理を前記検査領域に対してのみ施し、得られた前記濃度分布に基づいて前記検査パターンの欠陥検出を行う工程と、を備える。【選択図】図2
請求項（抜粋）：
検査パターンの画像を取得する工程と、
前記画像から前記検査パターンの輪郭を検出する工程と、
検出された輪郭を境界として前記画像を検査領域と非検査領域とに分割する工程と、
前記画像の濃度分布を求めるための画像処理を前記検査領域に対してのみ施し、得られた前記濃度分布に基づいて前記検査パターンの欠陥検出を行う工程と、
を備える欠陥検査方法。
IPC (1件)：
FI (1件)：
Fターム (10件)：
2G051AA51
, 2G051AA90
, 2G051AB02
, 2G051CA04
, 2G051CB01
, 2G051EA11
, 2G051EA12
, 2G051ED01
, 2G051ED22
, 2G051ED23
