特許
J-GLOBAL ID：201103093035933044
ポジ型レジスト組成物
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
阿形 明
, 水口 崇敏
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-369225
公開番号（公開出願番号）：特開2002-169292
特許番号：特許第3945741号
出願日： 2000年12月04日
公開日（公表日）： 2002年06月14日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 酸の作用によりアルカリに対する溶解性を増大する樹脂成分(A)と、放射線照射により酸を発生する酸発生剤成分(B)と、有機溶剤成分(C)とを含有する化学増幅型ポジ型レジスト組成物において、樹脂成分(A)として、一般式
(式中のR1は水素原子又はメチル基、R2はメチル基、エチル基又はプロピル基である)
で表わされる構成単位(a1)20〜80モル%、一般式
(式中のR1は前記と同じ意味をもつ)
で表わされる構成単位(a2)10〜60モル%、及び一般式
(式中のR1は前記と同じ意味をもつ)
で表わされる構成単位(a3)10〜60モル%からなる共重合体を、また(B)成分としてトリフェニルスルホニウムノナフルオロブタンスルホネートを用いるとともに、(D)成分としてトリメチルアミン、ジエチルアミン、トリエチルアミン、ジ-n-プロピルアミン、トリ-n-プロピルアミン、トリペンチルアミン、ジエタノールアミン及びトリエタノールアミンの中から選ばれた少なくとも1種の脂肪族アミンを含有させたことを特徴とするポジ型レジスト組成物。
IPC (3件)：
G03F 7/039 ( 200 6.01)
, G03F 7/004 ( 200 6.01)
, H01L 21/027 ( 200 6.01)
G03F 7/039 601
, G03F 7/004 501
, G03F 7/004 503 A
, H01L 21/30 502 R
出願人引用 (21件)
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審査官引用 (21件)
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