特許
J-GLOBAL ID:201403034129196910
オキシムスルホネートおよびN-オキシイミドスルホネート光感応性酸発生剤およびそれを含むフォトレジスト
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
佐伯 憲生
公報種別:特許公報
出願番号(国際出願番号):特願2002-521651
特許番号:特許第5342094号
出願日: 2001年08月24日
請求項(抜粋):
【請求項1】 フォトレジスト組成物であって、樹脂および下記の化学式
NC(1-ナフチル)C=NOS(O)2C6F5
で表わされる光感応性酸発生剤化合物を含むフォトレジスト組成物。
IPC (6件):
G03F 7/004 ( 200 6.01)
, C09K 3/00 ( 200 6.01)
, G03F 7/039 ( 200 6.01)
, H01L 21/027 ( 200 6.01)
, G03F 7/038 ( 200 6.01)
, C07C 309/73 ( 200 6.01)
FI (6件):
G03F 7/004 503 A
, C09K 3/00 K
, G03F 7/039 601
, H01L 21/30 502 R
, G03F 7/038 601
, C07C 309/73
引用特許:
審査官引用 (16件)
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ポジ型レジスト組成物
公報種別:公開公報
出願番号:特願平9-200017
出願人:東京応化工業株式会社
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ポジ型レジスト組成物
公報種別:公開公報
出願番号:特願平11-275334
出願人:富士写真フイルム株式会社
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感放射線性樹脂組成物
公報種別:公開公報
出願番号:特願平6-337093
出願人:日本合成ゴム株式会社
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