特許
J-GLOBAL ID：201703013448570870
劣化抑制手段を備えた光学アセンブリ
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (6件)：
辻居 幸一
, 熊倉 禎男
, 大塚 文昭
, 西島 孝喜
, 須田 洋之
, 上杉 浩
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2014-520594
特許番号：特許第6176740号
出願日： 2012年07月05日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 光学アセンブリ、特にEUVリソグラフィのための投影露光装置(1)であって、
作動波長(λb)の放射線(6)を発生させるためのビーム発生系(2)と、
前記放射線(6)を受け、かつ残留ガス雰囲気(16)中に配置された少なくとも1つの光学要素(13,14)と、
前記放射線(6)によって誘起される前記光学要素(14)の面(14a)の劣化を抑制するために、前記残留ガス雰囲気(16)中に少なくとも1つのガス構成物質(H2)を給送するための給送デバイス(15)と、
を含み、
前記光学要素(14)の前記面(14a)でのビーム直径(d)が、閾値(dc)よりも小さく、それによって前記劣化の抑制の有効性の低下が発生し、該面(14a)の該劣化の抑制の改善のための更に別のデバイス(25,27)が該光学要素(14)に割り当てられ、
劣化の抑制の改善のための更に別のデバイスは、前記閾値(dc)よりも大きい面(13a)での前記放射線(6)のビーム直径(d)を有する光学アセンブリの光学要素(13)には割り当てられない、
前記閾値(dc)は、1mmと0.1mmの間にある、
ことを特徴とする光学アセンブリ。
IPC (1件)：
FI (2件)：
G03F 7/20 503
, G03F 7/20 521
出願人引用 (12件)
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審査官引用 (12件)
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