ワーク研磨装置およびワーク研磨方法

Inventor： , , , , ,
Applicant, Patent owner： ,
Agent (2)：綿貫隆夫 , 堀米和春
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2006280840
Publication number (International publication number)：2007160496
Application date： Oct. 16, 2006
Publication date： Jun. 28, 2007
Summary：

【課題】コストの低減化が図れ、面精度よく研磨が行え、また廃液処理も容易に行える電解還元水を用いたワーク研磨方法を提供する。【解決手段】本発明に係るワーク研磨方法は、ワークを研磨部材に押圧し、研磨液を供給しつつワークと研磨部材とを相対運動させることによりワークを研磨する研磨方法において、前記研磨液に電解質塩水溶液を電気分解して得られる電解還元水を用いてワークを研磨することを特徴とする。【選択図】図3

Claim (excerpt)：

ワークを研磨部材に押圧し、研磨液を供給しつつワークと研磨部材とを相対運動させることによりワークを研磨する研磨方法において、前記研磨液に電解質溶液を電気分解して得られる電解還元水を用いてワークを研磨することを特徴とするワーク研磨方法。

IPC (4)：

B24B 37/00 , H01L 21/304 , B24B 55/02 , B24B 57/02

FI (4)：

B24B37/00 H , H01L21/304 622C , B24B55/02 Z , B24B57/02

F-Term (9)：

3C047FF08 , 3C047FF19 , 3C047GG15 , 3C058AA07 , 3C058AA09 , 3C058AC04 , 3C058CB01 , 3C058CB05 , 3C058DA17

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (14)

特公平8-22503号公報
パチンコ玉研磨装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2005-330087 Applicant：池内祐峰
研磨布の表面処理方法および研磨装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平6-045826 Applicant：日本電気株式会社

Show all

Cited by examiner (9)

研磨布の表面処理方法および研磨装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平6-045826 Applicant：日本電気株式会社
半導体装置の製造方法及び半導体製造装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平7-170303 Applicant：株式会社東芝
非化学機械研磨用水溶液、研磨剤セット及び化学機械研磨方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2003-132270 Applicant：JSR株式会社, 株式会社東芝

Show all

Return to Previous Page